特許
J-GLOBAL ID：200903034313332982
パラボラリフレクタまたはリフレクタの対応の楕円面/双曲面対を使用する集光システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-507978
公開番号（公開出願番号）：特表2003-503829
出願日： 2000年06月28日
公開日（公表日）： 2003年01月28日
要約：
【要約】集光システムは、コリメーティングリフレクタ(30)および合焦リフレクタ(40)を含む。コリメーティングリフレクタ(30)は、焦点(36)および光学軸(38)を有する回転放物面の一部を含む。合焦リフレクタ(40)は、焦点(46)および光学軸(48)を有する回転放物面を含む。コリメーティングリフレクタ(30)の焦点(36)に置かれる電磁放射源(20)が、放射のコリメートされたビームを発生する。合焦リフレクタ(40)は、コリメートされたビームを受取り、それを、合焦リフレクタ(40)の焦点(46)に位置決めされたターゲット(60)の方へ合焦するように位置決めされる。
請求項（抜粋）：
電磁放射源と、 前記源によって放出された電磁放射の少なくとも一部で照明されるべきターゲットと、 光学軸および前記光学軸上の焦点を有するコリメーティングリフレクタとを含み、前記源は、前記コリメーティングリフレクタの前記焦点に近接して位置して、前記光学軸に実質的に平行な方向に前記コリメーティングリフレクタから反射される放射のコリメートされた光線を発生し、さらに、 回転放物面の少なくとも一部を含む合焦リフレクタを含み、前記合焦リフレクタは、光学軸および前記光学軸上の焦点を有し、前記ターゲットは、前記合焦リフレクタの前記焦点に近接して位置し、前記合焦リフレクタは、前記コリメーティングリフレクタから反射された放射のコリメートされた光線が前記合焦リフレクタによって反射され実質的に前記ターゲットの方へ合焦されるように、前記コリメーティングリフレクタに対して位置決めされ配向され、 前記コリメーティングリフレクタおよび前記合焦リフレクタは、以下からなるグループから選択されたコリメーティング/合焦リフレクタ対を含む: (a) 1対のリフレクタであって、前記1対のリフレクタの各リフレクタは、実質的回転放物面の少なくとも一部を含みほぼ同じサイズおよび形状を有し、コリメーティングリフレクタおよび合焦リフレクタは、前記コリメーティングリフレクタの表面部によって反射された放射の実質的に各光線が前記合焦リフレクタの対応の表面部によって前記ターゲット方へ反射されて、源と前記ターゲット上に合焦された像との間に実質的に単位拡大を達成するように、互いに対して対応のサイズおよび光学的配向を有し、 (b) コリメーティングリフレクタおよび合焦リフレクタの楕円面/双曲面対を含む1対のリフレクタであって、楕円面/双曲面対のコリメーティングリフレクタおよび合焦リフレクタの一方は実質的に楕円の形状を有し、コリメーティングリフレクタおよび合焦リフレクタの他方は対応の実質的に双曲面の形状を有し、楕円面/双曲面対の各リフレクタは、前記コリメーティングリフレクタの表面部によって反射された放射の実質的に各光線が、前記合焦リフレクタの対応の表面部によって前記ターゲットの方へ反射されて、約0.5から約5の、前記ターゲットの上に合焦された像と源との間のほぼ単位拡大を達成するように、互いに対して対応のサイズおよび光学的配向を有する、光学装置。
IPC (8件)：
F21V 8/00
, F21V 7/06
, F21V 7/07
, F21V 7/08
, F21V 7/09
, G02B 5/10
, G02B 6/42
, F21Y101:00
F21V 8/00 L
, F21V 7/06 A
, F21V 7/07
, F21V 7/08
, F21V 7/09 A
, G02B 5/10 A
, G02B 6/42
, F21Y101:00
2H037AA03
, 2H037BA07
, 2H037CA38
, 2H037DA02
, 2H037DA03
, 2H037DA04
, 2H042DA08
, 2H042DD06
, 2H042DD07
, 2H042DD09
, 2H042DE04
