光の結晶透過中に起こる直線偏光の解消を防止するための配置及び方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：浜本忠 , 佐藤嘉明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-275280
公開番号（公開出願番号）：特開2008-116940
出願日： 2007年10月23日
公開日（公表日）： 2008年05月22日
要約：

【課題】レーザ装置、平面パネルディスプレイ等の光学システム、特に電子部品の製造において直線偏光の解消によって生ずる問題を解決する。【解決手段】{111}または{100}結晶面及び<111>または<100>結晶軸をもつ結晶中への光の透過中に直線偏光の解消を引き起こし、防止し、あるいは減ずることができるように配置を行い、結晶表面は直線偏光が45〜75°Cの角度で衝突する{111}または{100}面によって形成し、及び前記結晶を、該結晶中へ入った後の光が前記<100>または<111>結晶軸に対して可能な限り平行に伝搬されるように、及び/または前記結晶中に温度勾配が形成されることを防止する系に調節装置が含まれるように配置する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

{111}または{100}結晶面及び<111>または<100>結晶軸をもつ結晶中への光の透過中における直線偏光の解消を引き起こしかつ防止あるいは減ずるための配置であって、前記結晶の表面は前記直線偏光が45〜75°Cの角度で衝突する前記{111}または{100}面によって形成され、及び前記結晶が、該結晶中へ入った後の光が前記<100>または<111>結晶軸に対して可能な限り平行に伝搬されるように、及びまたは前記結晶中に温度勾配が形成されることを防止する系に調節装置が含まれるように配置されることを特徴とする前記配置。

IPC (2件)：

G02B 5/30 , H01S 3/10

FI (2件)：

G02B5/30 , H01S3/10 Z

Fターム (12件)：

2H049BA06 , 2H049BA12 , 2H049BA42 , 2H049BB03 , 2H049BB42 , 2H049BC21 , 2H049BC22 , 2H049BC25 , 5F172NN28 , 5F172NR12 , 5F172NS05 , 5F172NS30

引用特許：

審査官引用 (4件)

紫外線レーザ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-156439 出願人：ギガフォトン株式会社, 株式会社小松製作所
レーザ出力検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-188832 出願人：ミヤチテクノス株式会社
固体レーザー
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-253838 出願人：富士写真フイルム株式会社

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