X線露光用マスクとそのマスクブランク

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：上田章三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-339243
公開番号（公開出願番号）：特開平5-175104
出願日： 1991年12月24日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：

【要約】【目的】 X線露光用マスクとウェハ等におけるアライメント精度の向上が図れるX線露光用マスクとそのマスクブランクを提供すること。【構成】このX線露光用マスク1は、中央に開口部20を有する枠体2と、この枠体2にその周縁部を保持されたバックエッチストッパー膜3と、この上に成膜された反射防止膜41と、この上に成膜されアライメント光とX線を共に透過する透過性支持膜5と、この上に成膜された反射防止膜42と、この上にパターン状に形成されたX線吸収体6とでその主要部が構成される。そして、上記反射防止膜41,42の作用によりアライメント光の透過率の変動を抑制でき、かつ、バックエッチストッパー膜3の作用により反射防止膜とエッチャントとの接触が回避されるため適用できる材料の選択範囲を拡大できる効果も有している。

請求項（抜粋）：

シリコンにより形成されその中央に開口部を有する枠体と、この枠体にその周縁部が保持されアライメント光とX線を共に透過する透過性支持膜と、この透過性支持膜の上記枠体とは反対側の主面上にパターン状に設けられたX線吸収体、とを備えるX線露光用マスクにおいて、上記透過性支持膜の両面に反射防止膜が一様に成膜され、かつ、上記枠体側の反射防止膜面にバックエッチストッパー膜が形成されていることを特徴とするX線露光用マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 1/16

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平2-241019
特開昭63-009932
特開昭58-215028

全件表示

前のページに戻る