特許
J-GLOBAL ID：200903034448317711

マスク検査方法

発明者：
安藤 彰彦

安藤 彰彦 について


出願人/特許権者：
NECエレクトロニクス株式会社

NECエレクトロニクス株式会社 について


代理人 (1件)： 稲垣 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-432984
公開番号（公開出願番号）：特開2005-189655
出願日： 2003年12月26日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：
【課題】 マスクパターンに含まれる擬似欠陥の検出を抑制し、実欠陥を確実に検出しすることによって、迅速なパターン検査を行うことが出来るマスク検査方法を提供する。【解決手段】 マスク検査装置10は、検査対象パターンを撮像して得られた検査対象データと、基準パターンデータとを比較して、検査対象パターンを検査する。マスク検査装置10は、基準パターンデータに、ウエハシミュレーションに基づいて検査アルゴリズム及び検査感度を含む検査情報を生成する検査情報生成部12と、この検査情報を基準図形データに付加して検査情報付き基準図形データを生成する変換部13と、検査情報付き基準図形データに付加された検査情報に基づいて、各ピクセル毎の基準図形データと検査対象パターンデータとを比較して検査対象パターンデータの良否を判定する欠陥判定部16とを備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
レイアウトデータに基づいて作成したマスクパターンに発生した欠陥を検出するマスク検査方法において、 欠陥が、マスクパターンを構成する多数のピクセルの何れのピクセルに位置するかによって、検出すべき欠陥の大きさを指定することを特徴とするマスク検査方法。
IPC (2件)：
G03F1/08 ,  G01N21/956
FI (2件)：
G03F1/08 S ,  G01N21/956 A
Fターム (14件)：
2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AB07 ,  2G051CA04 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EB01 ,  2G051ED07 ,  2G051ED21 ,  2H095BD02 ,  2H095BD04 ,  2H095BD15 ,  2H095BD25 ,  2H095BD28
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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