特許
J-GLOBAL ID：200903034490829420
ガスハイドレートの製造方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小川 信一
, 野口 賢照
, 斎下 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-077395
公開番号（公開出願番号）：特開2005-263675
出願日： 2004年03月18日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：
【課題】高純度のガスハイドレートを効率的に製造する。【解決手段】原料ガスgと水wとを反応させて原料ガスと水との水和物であるガスハイドレートを製造するガスハイドレートの製造方法である。(a)前記原料ガスgを水中へ分散するか又は水wとミキシングして低純度のガスハイドレートスラリーsを製造する第1生成工程と、(b)該第1生成工程より流入した低純度のガスハイドレートスラリーsを濾過して未反応水を除去する脱水工程と、(c)該脱水工程で脱水したガスハイドレートを原料ガス及び/又は機械的攪拌手段によって攪拌混合しながらガスハイドレートに付着している残存水と原料ガスgとを再反応させて高純度のガスハイドレートを製造する第2生成工程とからなる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
原料ガスと水とを反応させて原料ガスと水との水和物であるガスハイドレートを製造するガスハイドレートの製造方法において、
(a)前記原料ガスを水中へ分散するか又は水とミキシングして低純度のガスハイドレートスラリーを製造する第1生成工程と、
(b)該第1生成工程より流入した低純度のガスハイドレートスラリーを濾過して未反応水を除去する脱水工程と、
(c)該脱水工程で脱水したガスハイドレートを原料ガス及び/又は機械的攪拌手段によって攪拌混合しながら、ガスハイドレートに付着している残存水と原料ガスとを再反応させて高純度のガスハイドレートを製造する第2生成工程とからなるガスハイドレートの製造方法。
IPC (5件)：
C07B63/02
, C07B61/00
, C07C5/00
, C07C7/20
, C07C9/04
C07B63/02 B
, C07B61/00 C
, C07C5/00
, C07C7/20
, C07C9/04
4H006AA02
, 4H006AA04
, 4H006AC93
, 4H006AD17
, 4H006BD10
, 4H006BD70
, 4H006BE60
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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