特許
J-GLOBAL ID:200903034497564937

複合多層構造の水素透過膜とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 岩橋 文雄 ,  内藤 浩樹 ,  永野 大介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-076334
公開番号(公開出願番号):特開2007-245123
出願日: 2006年03月20日
公開日(公表日): 2007年09月27日
要約:
【課題】薄く圧延されてもピンホールがなく、高純度水素の透過分離性能が良く、水素脆性しない安価な水素透過膜を提供する。 【解決手段】複合多層構造の水素透過膜1は、上から、PdまたはPd合金の触媒金属層53、Pdと低い固溶限を有する第四金属層51、水素固溶量が小さく金属水素化物を作りにくい第二金属層49、水素固溶量が大きい第三金属層50、水素透過性能の高い第一金属層48、第三金属層50、第二金属層49、第三金属層50、第一金属層48、第三金属層50、第二金属層49、第四金属層51、触媒金属層53の順で積層された構造を有し、第一金属層48、第二金属層49、第三金属層50、第四金属層51からなる複合コア積層体52を拡散接合と圧延により作成し、その両面に触媒金属層53を形成してなるもので、圧延後に追加熱処理により加工性を高めた。【選択図】図2
請求項(抜粋):
水素透過性能の高い第一金属層と、水素固溶量が小さく金属水素化物を作りにくい第二金属層と、水素固溶量が大きい第三金属層とを含む積層体を構成し、前記積層体両面に、PdまたはPd合金の触媒金属層を形成してなる複合多層構造の水素透過膜。
IPC (3件):
B01D 71/02 ,  B01D 69/12 ,  B23K 20/04
FI (3件):
B01D71/02 500 ,  B01D69/12 ,  B23K20/04 H
Fターム (33件):
4D006GA41 ,  4D006HA41 ,  4D006MA03 ,  4D006MA08 ,  4D006MA10 ,  4D006MB04 ,  4D006MC02X ,  4D006NA31 ,  4D006NA47 ,  4D006NA65 ,  4D006PA01 ,  4D006PA02 ,  4D006PB20 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80 ,  4E067AA20 ,  4E067AA26 ,  4E067AB01 ,  4E067BA00 ,  4E067DC02 ,  4E067DC05 ,  4E067EA03 ,  4E067EC02 ,  4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EB19 ,  4G140EB23 ,  4G140EB37 ,  4G140EC03 ,  4G140FA02 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01
引用特許:
出願人引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る