特許
J-GLOBAL ID:200903034497564937
複合多層構造の水素透過膜とその製造方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
岩橋 文雄
, 内藤 浩樹
, 永野 大介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-076334
公開番号(公開出願番号):特開2007-245123
出願日: 2006年03月20日
公開日(公表日): 2007年09月27日
要約:
【課題】薄く圧延されてもピンホールがなく、高純度水素の透過分離性能が良く、水素脆性しない安価な水素透過膜を提供する。 【解決手段】複合多層構造の水素透過膜1は、上から、PdまたはPd合金の触媒金属層53、Pdと低い固溶限を有する第四金属層51、水素固溶量が小さく金属水素化物を作りにくい第二金属層49、水素固溶量が大きい第三金属層50、水素透過性能の高い第一金属層48、第三金属層50、第二金属層49、第三金属層50、第一金属層48、第三金属層50、第二金属層49、第四金属層51、触媒金属層53の順で積層された構造を有し、第一金属層48、第二金属層49、第三金属層50、第四金属層51からなる複合コア積層体52を拡散接合と圧延により作成し、その両面に触媒金属層53を形成してなるもので、圧延後に追加熱処理により加工性を高めた。【選択図】図2
請求項(抜粋):
水素透過性能の高い第一金属層と、水素固溶量が小さく金属水素化物を作りにくい第二金属層と、水素固溶量が大きい第三金属層とを含む積層体を構成し、前記積層体両面に、PdまたはPd合金の触媒金属層を形成してなる複合多層構造の水素透過膜。
IPC (3件):
B01D 71/02
, B01D 69/12
, B23K 20/04
FI (3件):
B01D71/02 500
, B01D69/12
, B23K20/04 H
Fターム (33件):
4D006GA41
, 4D006HA41
, 4D006MA03
, 4D006MA08
, 4D006MA10
, 4D006MB04
, 4D006MC02X
, 4D006NA31
, 4D006NA47
, 4D006NA65
, 4D006PA01
, 4D006PA02
, 4D006PB20
, 4D006PB66
, 4D006PC80
, 4E067AA20
, 4E067AA26
, 4E067AB01
, 4E067BA00
, 4E067DC02
, 4E067DC05
, 4E067EA03
, 4E067EC02
, 4G140EA03
, 4G140EA06
, 4G140EB19
, 4G140EB23
, 4G140EB37
, 4G140EC03
, 4G140FA02
, 4G140FB09
, 4G140FC01
, 4G140FE01
引用特許:
前のページに戻る