特許
J-GLOBAL ID:200903034517314193
立体障害性ニトロキシルエーテルの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (9件):
萼 経夫
, 宮崎 嘉夫
, 加藤 勉
, 小山 京子
, 小野塚 薫
, 田上 明夫
, ▲高▼ 昌宏
, 森 則雄
, 山田 清治
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-517147
公開番号(公開出願番号):特表2009-541428
出願日: 2007年06月25日
公開日(公表日): 2009年11月26日
要約:
【課題】立体障害性ニトロキシルエーテルの製造方法の提供。【解決手段】本発明は、立体障害性ニトロキシルエーテルを対応する立体障害性ニトロキシル基から、それをカルボニル化合物及びヒドロペルオキシドと反応させることにより製造する新規な方法に関するものである。この方法によって製造された化合物は、光、酸素及び/又は熱の有害な影響に対するポリマーのための安定剤として、ポリマーのための難燃剤として及び重合調整剤として効果的である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
立体障害性ニトロキシルエーテルの製造方法であって、該方法は、対応する立体障害性ニトロキシル基とアルキル基を反応させることを含み、前記アルキル基は、金属触媒の存在下で、ケトン、アルデヒド、ジケトン又はジアルデヒドオリゴケトン又はオリゴアルデヒドとヒドロペルオキシドの反応において形成される方法であるが、但し、前記立体障害性ニトロキシル基が2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-1-オキシル(TEMPO)である場合は、前記ケトンはアセトンではない方法。
IPC (4件):
C07D 211/94
, C07F 9/40
, C07F 9/576
, C07D 401/14
FI (4件):
C07D211/94
, C07F9/40 C
, C07F9/576
, C07D401/14
Fターム (24件):
4C054AA02
, 4C054BB03
, 4C054CC07
, 4C054DD04
, 4C054DD08
, 4C054EE01
, 4C054EE04
, 4C054EE08
, 4C054FF23
, 4C054FF24
, 4C054FF30
, 4C063AA03
, 4C063AA05
, 4C063BB09
, 4C063CC44
, 4C063DD10
, 4C063EE10
, 4H039CA61
, 4H039CE90
, 4H050AA02
, 4H050AC40
, 4H050BA05
, 4H050BA37
, 4H050BE32
引用特許:
引用文献:
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