半導体ウェーハを乾燥するための乾燥システム及びこれを用いたウェーハ乾燥方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：服部雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-252710
公開番号（公開出願番号）：特開2002-118090
出願日： 2001年08月23日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：

【要約】【課題】動作サイクルが短く、且つウェーハが外部空気に露出される時間を最小化できる半導体ウェーハを乾燥するための乾燥システムを提供する。【解決手段】本発明に係る乾燥システムは、脱イオン水の浴槽と、前記ウェーハを浴槽の内外に垂直的に移動させるエレベータとを含むプロセス浴と、乾燥済みのウェーハが載置されるアンローディングステージと、蓋体胴体の底面に開口し且つウェーハを収容するように形成されたキャビティを構成する蓋体胴体と、前記キャビティ内に配置され、ウェーハを保持/解放するように作動するウェーハチャックと、前記蓋体胴体と一体に形成され、且つ前記キャビティと対向するガス供給開口部を有し、前記ウェーハチャックにより前記キャビティ内に保持されたウェーハにガスを注入できるガス供給部と、前記プロセス浴と前記アンローディングステージとの間で前記蓋体胴体を移動させる駆動手段とを含む蓋体と、を備える。

請求項（抜粋）：

半導体素子の製造時に半導体ウェーハを乾燥するための乾燥システムであって、脱イオン水の浴槽と、前記ウェーハを浴槽の内外に垂直的に移動させるエレベータとを含むプロセス浴と、乾燥済みのウェーハが載置されるアンローディングステージと、蓋体胴体の底面に開口し且つウェーハを収容するように形成されたキャビティを構成する蓋体胴体と、前記キャビティ内に配置され、ウェーハを保持/解放するように作動するウェーハチャックと、前記蓋体胴体と一体に形成され、且つ前記キャビティと対向するガス供給開口部を有し、前記ウェーハチャックにより前記キャビティ内に保持されたウェーハにガスを注入できるガス供給部と、前記プロセス浴と前記アンローディングステージとの間で前記蓋体胴体を移動させる駆動手段とを含む蓋体と、を備えることを特徴とする半導体ウェーハを乾燥するための乾燥システム。

IPC (2件)：

H01L 21/304 651 , H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 651 L , H01L 21/304 651 G

引用特許：

審査官引用 (5件)

基板の洗浄・乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-207580 出願人：株式会社カイジョー
ウェーハ洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-275807 出願人：新日本製鐵株式会社, 株式会社高田工業所
特開平2-222558

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