特許
J-GLOBAL ID：200903034534980210

リソグラフィー用ペリクル

発明者：
櫻井 郁男

櫻井 郁男 について

, 
白崎 享

白崎 享 について

, 
樫田 周

樫田 周 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 山本 亮一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-079953
公開番号（公開出願番号）：特開2001-264957
出願日： 2000年03月22日
公開日（公表日）： 2001年09月28日
要約：
【要約】【課題】 ペリクル膜の材質として非晶質パーフルオロポリマーを使用し、膜形成時、基板からの剥離性に優れ、短波長紫外光を長時間照射してもこれを吸収して光劣化したり、分解したりすることのない長寿命で、かつ透過率が高く変化のない高性能なペリクル膜を有するリソグラフィー用ペリクルを提供する。【解決手段】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、少なくともペリクル膜とペリクルフレームからなるペリクルにおいて、該ペリクルフレームに張設されるペリクル膜が、非晶質パーフルオロポリマーからなり、該ポリマーの末端基がフッ素化されていることを特徴としている。
請求項（抜粋）：
少なくともペリクル膜とペリクルフレームからなるペリクルにおいて、該ペリクルフレームに張設されるペリクル膜が、非晶質パーフルオロポリマーからなり、該ポリマーの末端基がフッ素化されていることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
IPC (3件)：
G03F 1/14 ,  C08F 8/20 ,  C08F 16/32
FI (3件)：
G03F 1/14 J ,  C08F 8/20 ,  C08F 16/32
Fターム (10件)：
2H095BC33 ,  4J100AE72P ,  4J100CA01 ,  4J100CA21 ,  4J100CA31 ,  4J100HA21 ,  4J100HB03 ,  4J100HC05 ,  4J100HE14 ,  4J100JA39
引用特許：
審査官引用 (23件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM