特許
J-GLOBAL ID：200903034595908920

プラズマ処理装置

発明者：
松本 直樹

松本 直樹 について


出願人/特許権者：
住友金属工業株式会社

住友金属工業株式会社 について


代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-189812
公開番号（公開出願番号）：特開2000-012292
出願日： 1998年06月19日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：
【要約】【課題】 反応器の直径が大きくても、装置全体のサイズを可及的に小さくでき、小さなスペースに設置し得、また、試料に入射されるイオンの指向性を改善すると共に、反応器の寿命を長くすることができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 反応器1の上端部には、環状マイクロ波窓4を支持するリング部材10が取り付けてあり、リング部材10上面には、円筒状のブロック部材25がリング部材10に螺子止めしてある。ブロック部材25の環状マイクロ波窓4に対向する部分に環状導波管型アンテナ部12が形成してあり、環状導波管型アンテナ部12の底部には複数のスリット15,15,...が周方向に所定の距離を隔てて開設してある環状の板部材16が嵌合してある。ブロック部材25にはアルミニウムを円柱状に成形してなる加熱ブロック26が着脱自在に内嵌してあり、加熱ブロック26の下面には対向電極18が着脱自在に螺子止めしてあり、対向電極18は接地してある。
請求項（抜粋）：
マイクロ波窓を設けてなる容器内へ、前記マイクロ波窓を透過させてマイクロ波を導入し、該マイクロ波によってプラズマを生成すると共に、前記容器内に設けてある載置台に高周波を印加し、生成したプラズマを前記載置台上に載置した被処理物上に導いて被処理物を処理する装置において、前記載置台に対向して対向電極が配置してあり、該対向電極に環状のマイクロ波窓が外嵌してあり、前記容器内へマイクロ波を放射するアンテナが前記マイクロ波窓に倣って配置してあることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065
FI (3件)：
H05H 1/46 B ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/302 B
Fターム (14件)：
4K057DA02 ,  4K057DA20 ,  4K057DB06 ,  4K057DD01 ,  4K057DM09 ,  4K057DM29 ,  4K057DM37 ,  4K057DM40 ,  4K057DN01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004CA04
引用特許：
審査官引用 (4件)
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