特許
J-GLOBAL ID：200903068076637244

プラズマ処理装置

発明者：
本多 茂樹

本多 茂樹 について

, 
吉田 武史

吉田 武史 について


出願人/特許権者：
住友金属工業株式会社

住友金属工業株式会社 について


代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-257329
公開番号（公開出願番号）：特開平11-097424
出願日： 1997年09月22日
公開日（公表日）： 1999年04月09日
要約：
【要約】【課題】 反応室内に発生するプラズマの密度を均一にする。【解決手段】 誘電体線路5と所定間隔を有してその下側にマイクロ波導入窓6が対向配置されている。マイクロ波導入窓6により、反応容器1の内側に形成される反応室10が封止されている。マイクロ波導入窓6は板状を有する窓本体とその上面中央に載置された厚み調整板6aとで構成されており、いずれも石英ガラスを用いて形成されている。厚み調整板6aは断面が矩形状の円環形状を有しており、試料Sのエッチングレートが最も高い領域に対向する位置に載置されている。
請求項（抜粋）：
導波管を経て供給されたマイクロ波が誘電体線路を伝搬し、該誘電体線路と空間を隔てて対向配置されたマイクロ波導入窓を介して反応室に導入され、該反応室内にプラズマを発生させるプラズマ処理装置において、前記マイクロ波導入窓は、その面内方向で厚みを異ならせるための導入窓厚み調整部を前記空間側に設けてあることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46
FI (3件)：
H01L 21/302 B ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 B
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • プラズマ装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-039498   出願人：住友金属工業株式会社
  • プラズマ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-223259   出願人：住友金属工業株式会社
  • マイクロ波導入装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-268883   出願人：住友金属工業株式会社

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