特許
J-GLOBAL ID:200903034616573850
3次元形状計測方法および装置ならびにプログラム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
河原 純一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-066251
公開番号(公開出願番号):特開2003-269928
出願日: 2002年03月12日
公開日(公表日): 2003年09月25日
要約:
【要約】【課題】複数の形状およびテクスチャデータを合成したときにも段差が目立たず、クオリティの高い統合データを自動的に得る。【解決手段】対応画素算出手段226が第1の位置・方向から計測したある画素における3次元座標点に対応する第2の位置・方向から撮影した画像列上の画素位置を求め、合致画素算出手段227が対応画素位置を基準とした部分画像をスキャンし、着目画素の光パターンに最も合致する光パターンを持つ合致画素を求めて3次元座標点を出力し、合致座標記憶手段228が合致した3次元座標点を対として保持し、補正量算出手段229が3つの手段を繰り返し3次元座標対を生成し、対となる3次元座標位置の差が最も小さくなるように第2の位置・方向から計測された座標点を変換する座標変換量を求め、3次元形状補正手段230が第2の位置・方向により計測した3次元形状を座標変換して出力する。
請求項(抜粋):
計測物体へと光パターンを投影しながら第1および第2の位置・方向より撮影した画像列に基づいて該第1および第2の位置・方向からの3次元形状を計測する方法において、計測物体上へと投影された光パターンから第1および第2の位置・方向間の対応を精密に求めることにより、前記第1および第2の位置・方向から計測した3次元形状間の位置ずれを補正する工程を持つことを特徴とする3次元形状計測方法。
IPC (4件):
G01B 11/24
, G01B 11/25
, G06T 1/00 315
, G06T 7/60 150
FI (4件):
G06T 1/00 315
, G06T 7/60 150 S
, G01B 11/24 K
, G01B 11/24 E
Fターム (33件):
2F065AA04
, 2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065EE00
, 2F065FF05
, 2F065FF26
, 2F065HH07
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065JJ08
, 2F065JJ26
, 2F065KK03
, 2F065PP22
, 2F065QQ03
, 2F065QQ13
, 2F065QQ18
, 2F065QQ24
, 2F065QQ27
, 2F065QQ38
, 2F065SS02
, 2F065UU01
, 2F065UU02
, 2F065UU05
, 5B057BA02
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB13
, 5B057CB16
, 5B057DC32
, 5L096AA02
, 5L096CA05
, 5L096FA41
, 5L096FA69
引用特許:
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