特許
J-GLOBAL ID:200903034616573850

3次元形状計測方法および装置ならびにプログラム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 河原 純一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-066251
公開番号(公開出願番号):特開2003-269928
出願日: 2002年03月12日
公開日(公表日): 2003年09月25日
要約:
【要約】【課題】複数の形状およびテクスチャデータを合成したときにも段差が目立たず、クオリティの高い統合データを自動的に得る。【解決手段】対応画素算出手段226が第1の位置・方向から計測したある画素における3次元座標点に対応する第2の位置・方向から撮影した画像列上の画素位置を求め、合致画素算出手段227が対応画素位置を基準とした部分画像をスキャンし、着目画素の光パターンに最も合致する光パターンを持つ合致画素を求めて3次元座標点を出力し、合致座標記憶手段228が合致した3次元座標点を対として保持し、補正量算出手段229が3つの手段を繰り返し3次元座標対を生成し、対となる3次元座標位置の差が最も小さくなるように第2の位置・方向から計測された座標点を変換する座標変換量を求め、3次元形状補正手段230が第2の位置・方向により計測した3次元形状を座標変換して出力する。
請求項(抜粋):
計測物体へと光パターンを投影しながら第1および第2の位置・方向より撮影した画像列に基づいて該第1および第2の位置・方向からの3次元形状を計測する方法において、計測物体上へと投影された光パターンから第1および第2の位置・方向間の対応を精密に求めることにより、前記第1および第2の位置・方向から計測した3次元形状間の位置ずれを補正する工程を持つことを特徴とする3次元形状計測方法。
IPC (4件):
G01B 11/24 ,  G01B 11/25 ,  G06T 1/00 315 ,  G06T 7/60 150
FI (4件):
G06T 1/00 315 ,  G06T 7/60 150 S ,  G01B 11/24 K ,  G01B 11/24 E
Fターム (33件):
2F065AA04 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065EE00 ,  2F065FF05 ,  2F065FF26 ,  2F065HH07 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ26 ,  2F065KK03 ,  2F065PP22 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ18 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ38 ,  2F065SS02 ,  2F065UU01 ,  2F065UU02 ,  2F065UU05 ,  5B057BA02 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB13 ,  5B057CB16 ,  5B057DC32 ,  5L096AA02 ,  5L096CA05 ,  5L096FA41 ,  5L096FA69
引用特許:
審査官引用 (3件)

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