特許

J-GLOBAL ID：200903034729006839

パターン膜形成方法およびパターン膜形成装置

発明者： 藤縄 淳 ,  中田 純司 ,  柴田 徳夫 ,  片岡 崇
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (3件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  福島 弘薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-006800
公開番号（公開出願番号）：特開2005-203183
出願日： 2004年01月14日
公開日（公表日）： 2005年07月28日
要約：

【課題】エッジがシャープなパターン膜を高い生産性および生産効率で作製できるパターン膜形成方法および形成装置を提供する。 【解決手段】基板に所定のパターンを有するパターン膜を形成するに際し、シート状物の表面に真空成膜法による薄膜を形成してなる転写シートを作成し、転写シートをパターン膜に応じた凸部を有する押圧部材によって押圧することにより、薄膜を基板のパターン膜形成面に押圧して、この薄膜を基板に転写することにより、前記課題を解決する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板に所定のパターンを有するパターン膜を形成するに際し、 シート状物の表面に真空成膜法による薄膜を形成してなる転写シートを作成し、この転写シートの前記薄膜とは逆面もしくは前記基板のパターン膜形成面とは逆面から、前記パターン膜に応じた凸部を有する押圧部材によって押圧することにより、前記薄膜を基板のパターン膜形成面に押圧して、この薄膜を前記基板に転写することを特徴とするパターン膜形成方法。

IPC (3件)：

H05B33/10 ,  B41M5/00 ,  H05B33/14

FI (3件)：

H05B33/10 ,  B41M5/00 101 ,  H05B33/14 A

Fターム (10件)：

2H086CA01 ,  2H086CA13 ,  2H086CA15 ,  2H286CA01 ,  2H286CA13 ,  2H286CA15 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置及び製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-370403   出願人：ソニー株式会社
• 特許第2918037号公報
  
• 多色パターンシートの製造方法およびその製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-211120   出願人：富士写真フイルム株式会社

審査官引用 (4件)

• 多色パターンシートの製造方法およびその製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-211120   出願人：富士写真フイルム株式会社
• カラーフィルタの製造方法及び製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-003053   出願人：大日本印刷株式会社
• 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置及び製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-370403   出願人：ソニー株式会社
• 有機EL素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-258036   出願人：シャープ株式会社