特許
J-GLOBAL ID:200903023756177813
有機EL素子の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
野河 信太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-258036
公開番号(公開出願番号):特開2003-068455
出願日: 2001年08月28日
公開日(公表日): 2003年03月07日
要約:
【要約】【課題】 転写法を用いて高精細なパターンの塗り分けが行える有機EL素子の製造方法を提供する。【解決手段】 ベースフイルム上に熱伝播層と、剥離層と、少なくとも発光層を含む有機層を有する転写層とをこの順に積層して転写フイルムを形成し、この転写フイルムの転写層を基板上に転写し、それによって基板上に第1電極、前記有機層および第2電極がこの順に積層された有機EL素子を形成するに際し、転写される有機層が、70°C以上のガラス転移温度を有する有機材料を含むことを特徴とする有機EL素子の製造方法を提供する。
請求項(抜粋):
ベースフイルム上に熱伝播層と、剥離層と、少なくとも発光層を含む有機層を有する転写層とをこの順に積層して転写フイルムを形成し、この転写フイルムの転写層を基板上に転写し、それによって基板上に第1電極、前記有機層および第2電極がこの順に積層された有機EL素子を形成するに際し、転写される有機層が、70°C以上のガラス転移温度を有する有機材料を含むことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (6件):
H05B 33/10
, G09F 9/00 342
, G09F 9/30 338
, G09F 9/30 365
, H05B 33/12
, H05B 33/14
FI (6件):
H05B 33/10
, G09F 9/00 342 Z
, G09F 9/30 338
, G09F 9/30 365 Z
, H05B 33/12 B
, H05B 33/14 A
Fターム (37件):
3K007AB04
, 3K007AB17
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007CB01
, 3K007DA01
, 3K007DB03
, 3K007EA01
, 3K007EB00
, 3K007FA01
, 5C094AA05
, 5C094AA08
, 5C094AA43
, 5C094BA03
, 5C094BA12
, 5C094BA27
, 5C094CA19
, 5C094CA24
, 5C094DA13
, 5C094DB01
, 5C094DB04
, 5C094EA04
, 5C094EA05
, 5C094FA01
, 5C094FA02
, 5C094FB01
, 5C094FB20
, 5C094GB10
, 5C094JA20
, 5G435AA17
, 5G435BB05
, 5G435CC09
, 5G435CC12
, 5G435HH01
, 5G435HH20
, 5G435KK07
, 5G435KK10
引用特許:
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