特許

J-GLOBAL ID：200903034776662159

光学用材料用組成物、光学用材料およびその製造方法

発明者： 藤田 雅幸 ,  大内 克哉 ,  坂本 晴美 ,  津村 学
出願人/特許権者： 鐘淵化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-033500
公開番号（公開出願番号）：特開2002-234986
出願日： 2001年02月09日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：

【要約】【課題】光学的透明性が高くかつ耐候性に優れる光学用材料用組成物、光学用材料、その製造方法を提供すること。【解決手段】(A)SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機系骨格からなる有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)エポキシ樹脂、(E)非アミン系エポキシ樹脂用硬化剤、を必須成分とする組成物であって、フェノール性水酸基および/あるいはフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物の含有量を75重量%以下にする。

請求項（抜粋）：

(A)SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機系骨格からなる有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)エポキシ樹脂、(E)非アミン系エポキシ樹脂用硬化剤、を必須成分とする組成物であって、フェノール性水酸基および/あるいはフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物の含有量が75重量%以下である光学用材料用組成物。

IPC (6件)：

C08L 63/00 ,  C08K 3/08 ,  C08K 5/00 ,  C08L 83/05 ,  C08L101/02 ,  G02B 1/04

FI (6件)：

C08L 63/00 A ,  C08K 3/08 ,  C08K 5/00 ,  C08L 83/05 ,  C08L101/02 ,  G02B 1/04

Fターム (30件)：

4J002AA03X ,  4J002CD01W ,  4J002CD02W ,  4J002CD03W ,  4J002CD05W ,  4J002CD06W ,  4J002CD12W ,  4J002CD13W ,  4J002CD17W ,  4J002CP04Y ,  4J002DA077 ,  4J002EA016 ,  4J002EA026 ,  4J002EA056 ,  4J002EA066 ,  4J002EC018 ,  4J002EC078 ,  4J002ED056 ,  4J002EG098 ,  4J002EJ018 ,  4J002EJ026 ,  4J002EJ036 ,  4J002EX038 ,  4J002EZ008 ,  4J002FD140 ,  4J002FD148 ,  4J002FD20X ,  4J002FD20Y ,  4J002FD206 ,  4J002FD207

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 硬化性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-290951   出願人：鐘淵化学工業株式会社
• 接着性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-035250   出願人：鐘淵化学工業株式会社
• 電気・電子部品材料用組成物、および電気・電子部品材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-356457   出願人：鐘淵化学工業株式会社