特許
J-GLOBAL ID：200903034824434015

フォトマスクおよびこれを用いた露光方法

発明者：
松浦 誠司

松浦 誠司 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 尾身 祐助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-352110
公開番号（公開出願番号）：特開2001-296647
出願日： 2000年11月20日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：
【要約】【課題】 焦点深度とMEF(Mask Error Factor)において優れ、且つ、サイドローブの発生の抑制、露光時間の短縮、を図るフォトマスクを提供する。【解決手段】 石英からなる透明基板1、位相シフト量約180度、透過率3〜10%のハーフトーン膜3、Crからなる遮光膜2にて構成される。透明基板1上に、ハーフトーン膜3と遮光膜2は共通の開口4を有する。そして、遮光膜2はハーフトーン膜上に開口端を始点に開口の辺のそれぞれの垂直方向に等距離の幅(Cr width)を持って形成される。この、Cr widthの寸法は、ハーフトーン膜の幅未満とする。
請求項（抜粋）：
露光光を透過させる透明基板上に、透過する露光光の位相をシフトさせる半透明膜が形成され、前記半透明膜を透過する光と前記透明基板のみを透過する光との間に180度の位相差が生じるように構成されたフォトマスクにおいて、前記半透明膜の開口の周辺には全周囲に渡って遮光膜が形成されていることを特徴とするフォトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 1/08 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (3件)：
2H095BB03 ,  2H095BC05 ,  2H095BC27
引用特許：
審査官引用 (5件)
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