現像装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-310863
公開番号（公開出願番号）：特開平11-145044
出願日： 1997年11月12日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：

【要約】【課題】均一な現像処理を行なうことができる現像装置を提供することである。【解決手段】現像液吐出ノズル11のノズル本体部16は平面状の底面17を有し、比較的硬質な親水性材料により形成される。ノズル本体16には、鉛直下向きに延びかつ底面17で開口するスリット状吐出口15が設けられる。ノズル本体部16の底面17を除く外壁面18は撥水性材料層20でコーティングされる。スリット状吐出口15の内壁面21およびノズル本体部15の底面17は親水性材料により形成される。スリット状吐出口15は現像液吐出ノズル11の走査方向Aにおいて底面17の中心よりも前方側に設けられる。現像処理時に基板100を基板保持部により静止状態で保持する。現像液吐出ノズル11を基板100外の一方側の位置から基板100上を通過して基板100外の他方側の位置へ直線状に移動させつつ現像液を基板100上に供給する。

請求項（抜粋）：

基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、現像液を吐出する吐出口を有する現像液吐出ノズルと、前記基板保持手段に静止状態で保持された基板に対して前記現像液吐出ノズルを相対的に移動させる移動手段とを備え、前記現像液吐出ノズルの前記吐出口の内壁面が親水性を有することを特徴とする現像装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , B05C 5/02 , G03F 7/30 502

FI (3件)：

H01L 21/30 569 C , B05C 5/02 , G03F 7/30 502

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開昭63-018627
処理方法及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-139364 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
液体吐出用管状材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-030203 出願人：株式会社リコー

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審査官引用 (8件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-312123 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開昭63-018627
処理方法及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-139364 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

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