特許
J-GLOBAL ID：200903034904577020

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者：
内海 義之

内海 義之 について

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内田 竜介

内田 竜介 について

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清水 宏明

清水 宏明 について

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大下 京子

大下 京子 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-349233
公開番号（公開出願番号）：特開2007-155991
出願日： 2005年12月02日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：
【課題】ラインワイズラフネス(LWR)が低減された良好な形状のレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)は、炭素数6以上の鎖状の第三級アルキル基からなる酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)とを含む高分子化合物(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、 前記樹脂成分(A)は、下記一般式(A-1)
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/004
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  G03F7/004 501
Fターム (13件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (2件)

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