特許
J-GLOBAL ID：200903082530494081

ポジ型レジスト組成物

発明者：
佐藤 健一郎

佐藤 健一郎 について

, 
西山 文之

西山 文之 について

, 
漢那 慎一

漢那 慎一 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-159550
公開番号（公開出願番号）：特開2004-361629
出願日： 2003年06月04日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：
【課題】露光ラチチュードが広く、PEB温度依存性が小さく、デフォーカスラチチュードが広いポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A1)側鎖に脂環基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、(A2)側鎖に鎖状3級アルキル基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A1)下記一般式(I)で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、 (A2)一般式(II)で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、 及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/039 ,  C08F220/18 ,  H01L21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  C08F220/18 ,  H01L21/30 502R
Fターム (32件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03R ,  4J100BA04Q ,  4J100BA11S ,  4J100BA11T ,  4J100BB01Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC07P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC12P ,  4J100BC53S ,  4J100BC53T ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (9件)
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