製造ラインの自動品質制御方法及びその装置並びに記憶媒体

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-338214
公開番号（公開出願番号）：特開2002-149221
出願日： 2000年11月06日
公開日（公表日）： 2002年05月24日
要約：

【要約】【課題】人間系のデータ処理能力及び経験則、勘に頼るあいまいな性を克服し、大量データを有効に活用すること。【解決手段】製造ライン1における製造条件データ5及び出来映えデータ6をモニタリングして製造履歴データベース4に蓄積し、このうち出来映えデータ6を監視して製造ライン1での品質阻害事象を検出すると、製造条件データ5も加味して品質阻害要因を抽出し、この抽出結果と予め記憶された品質改善履歴データとを照合してその妥当性を確認し、さらに品質阻害要因について製造ライン1に関する現象のシミュレーションを実行して正当性を検証し、これら妥当性及び正当性があった場合には品質阻害要因を改善するように製造条件を変更して製造ライン1にフィードバックする。

請求項（抜粋）：

製造ラインにおける製造条件データ及び製品の出来映えデータをモニタリングして製造履歴データベースに蓄積し、このうち前記出来映えデータを監視して前記製造ラインでの品質阻害事象を検出すると、前記製造条件データも加味して品質阻害要因を抽出し、この抽出結果と予め記憶された品質改善履歴データとを照合してその妥当性を確認し、さらに前記品質阻害要因について前記製造ラインに関する現象のシミュレーションを実行して正当性を検証し、これら妥当性及び正当性があった場合には前記品質阻害要因を改善するように製造条件を変更して前記製造ラインにフィードバックすることを特徴とする製造ラインの自動品質制御方法。

IPC (3件)：

G05B 19/418 , G06F 17/60 108 , H01L 21/02

FI (3件)：

G05B 19/418 Z , G06F 17/60 108 , H01L 21/02 Z

Fターム (7件)：

3C100AA29 , 3C100AA57 , 3C100AA58 , 3C100AA70 , 3C100BB11 , 3C100BB27 , 3C100EE06

引用特許：

審査官引用 (2件)

半導体基板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-198219 出願人：株式会社日立製作所
特開昭63-249328

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