特許

J-GLOBAL ID：200903034955243029

アルコキシ基を有するかご状シルセスキオキサンの製造方法

発明者： 阿部 芳首 ,  郡司 天博 ,  有光 晃二 ,  上田 直人
出願人/特許権者： 学校法人東京理科大学
代理人 (1件)： 正林 真之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-239351
公開番号（公開出願番号）：特開2008-063228
出願日： 2006年09月04日
公開日（公表日）： 2008年03月21日
要約：

【課題】かご状シルセスキオキサン、特にn=8のT-8シルセスキオキサンを高い選択率で簡便に製造する方法を提供する。【解決手段】アルコキシ基を有するかご状シルセスキオキサンの製造方法において、溶媒および塩基存在下、1当量のSi-H結合を有するかご状シルセスキオキサンと、30〜40当量のアルコールとを20〜30°Cで反応させるアルコキシ基を有するかご状シルセスキオキサンの製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるかご状シルセスキオキサンから、下記一般式(2)で示されるかご状シルセスキオキサンを製造するアルコキシ基を有するかご状シルセスキオキサンの製造方法において、 溶媒および塩基存在下、1当量の下記一般式(1)で示される前記かご状シルセスキオキサンと、30〜40当量のアルコールまたはシラノールとを20〜30°Cで反応させるアルコキシ基を有するかご状シルセスキオキサンの製造方法。

IPC (2件)：

C07F 7/21 ,  C08G 77/02

FI (2件)：

C07F7/21 ,  C08G77/02

Fターム (25件)：

4H049VN01 ,  4H049VP08 ,  4H049VQ88 ,  4H049VR44 ,  4H049VS88 ,  4H049VV02 ,  4H049VV16 ,  4H049VV20 ,  4H049VV22 ,  4J246AA02 ,  4J246AA03 ,  4J246AB07 ,  4J246BA12X ,  4J246BA120 ,  4J246BA22X ,  4J246BA220 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246CA01U ,  4J246CA13M ,  4J246FA432 ,  4J246FA452 ,  4J246FB302 ,  4J246FC282 ,  4J246FE12

引用特許：

出願人引用 (3件)

• Journal of Organometallic Chemistry 521 (1996) 391-393頁
  
• ヒドリドシルセスキオキサン類のアルコキシ化、アラルキロキシ化、またはアリーロキシ化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-221440   出願人：工業技術院長
• 多孔質膜形成用組成物、多孔質膜の製造方法、多孔質膜、層間絶縁膜、及び半導体装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-087068   出願人：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社