特許
J-GLOBAL ID：200903035006269200
スパッタチャンバ及びスッパタターゲット
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-267660
公開番号（公開出願番号）：特開平10-195644
出願日： 1997年08月25日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：
【要約】【課題】改善されたスパッタターゲットとシールドがターゲットへのスパッタされた材料の再堆積を除去し、ターゲットとエンクロージャーの壁間の電気的絶縁部材への堆積物の形成を防止する。【解決手段】スパッタターゲット62は、プラズマがターゲットの全側壁をスパッタするように設計される。ターゲット、バッキングプレートおよびシールド70間の狭い通路69は見通しの堆積から絶縁部材を保護し、通路内のプラズマの形成がバッキングプレートとシールド間にアークが生じることがないようにする。本発明のターゲットは、周辺のエッジの周りに傾斜した、切頭円錐形の側壁のあるディスク形状である。
請求項（抜粋）：
スパッタチャンバであって、エンクロージャーと、アノードを形成する基板支持部材と、前記エンクロージャー内の基板支持部材に面し、アノードから電気的に絶縁されたスパッタターゲットであって、中央領域と実質的に切頭円錐状のエッジを有するターゲットと、前記ターゲットに結合されたDC電源、を有することを特徴とするスパッタチャンバ。
IPC (2件)：
FI (3件)：
C23C 14/34 B
, C23C 14/34 T
, H01L 21/203 S
