特許
J-GLOBAL ID：200903035025526531

電子顕微鏡装置を用いた計測対象パターンの計測方法

発明者：
田中 麻紀

田中 麻紀 について

, 
宍戸 千絵

宍戸 千絵 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-038945
公開番号（公開出願番号）：特開2007-218711
出願日： 2006年02月16日
公開日（公表日）： 2007年08月30日
要約：
【課題】測長SEMの装置特性を電子線シミュレーションに反映させることで、電子線シミュレーションを用いた計測手法の安定化、高速化、高精度化をはかる方法を提供する。【解決手段】本発明は、予め、装置特性と画像取得条件とを反映した電子線シミュレーションを様々な対象パターン形状について行ってSEM模擬波形を生成し、該生成されたSEM模擬波形に対応するパターン形状情報との組合せをライブラリとして記憶しておくライブラリ作成過程と、取得した実電子顕微鏡画像と前記SEM模擬波形とを比較して前記実電子顕微鏡画像と最も一致度の高い前記SEM模擬波形を選択し、該選択されたSEM模擬波形に対応するパターン形状情報から計測対象パターンの形状を推定する計測過程とを有する測長SEMを用いた計測対象パターンの計測方法。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
電子顕微鏡装置により計測対象パターンについての実電子顕微鏡画像を画像取得条件で取得し、該取得した実電子顕微鏡画像を用いて前記計測対象パターンの形状を推定して計測する電子顕微鏡装置を用いた計測対象パターンの計測方法であって、 予め、定められた予想変動範囲において寸法を変動させた様々な対象パターン形状の概略形状を数値データでモデル化してパターン形状情報を得る計測レシピ作成過程と、 予め、前記電子顕微鏡装置の装置特性と該電子顕微鏡装置による画像取得条件とを反映した電子線シミュレーションを前記予想変動範囲内の様々な対象パターン形状について行って様々な対象パターン形状についての電子顕微鏡信号の第1の模擬波形を生成し、該生成された電子顕微鏡信号の第1の模擬波形と該第1の模擬波形に対応する前記計測レシピ作成過程で得られたパターン形状情報との組合せをライブラリとして記憶しておくライブラリ作成過程と、 前記取得した実電子顕微鏡画像と前記ライブラリ作成過程で生成された電子顕微鏡画像の第1の模擬波形または該第1の模擬波形から生成された第2の模擬波形とを比較して前記実電子顕微鏡画像と最も一致度の高い前記第1の模擬波形または第2の模擬波形を選択し、該選択された第1の模擬波形または第2の模擬波形に対応する前記ライブラリ作成過程で用いた前記パターン形状情報から前記計測対象パターンの形状を推定する計測過程とを有することを特徴とする電子顕微鏡装置を用いた計測対象パターンの計測方法。
IPC (4件)：
G01B 15/04 ,  H01J 37/28 ,  H01J 37/22 ,  H01L 21/66
FI (4件)：
G01B15/04 K ,  H01J37/28 B ,  H01J37/22 502Z ,  H01L21/66 J
Fターム (30件)：
2F067AA03 ,  2F067AA13 ,  2F067AA16 ,  2F067AA21 ,  2F067AA33 ,  2F067AA52 ,  2F067AA53 ,  2F067AA54 ,  2F067CC17 ,  2F067EE10 ,  2F067HH06 ,  2F067HH13 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067KK08 ,  2F067NN03 ,  2F067PP12 ,  2F067QQ02 ,  2F067RR28 ,  2F067RR30 ,  2F067RR33 ,  2F067RR35 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  5C033UU05 ,  5C033UU08
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (6件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)
  • “Scanning electron microscope analog of scatterome

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