特許

J-GLOBAL ID：200903035259343864

像評価方法及び顕微鏡

発明者： 石谷 亨 ,  佐藤 貢 ,  戸所 秀男 ,  大高 正 ,  飯泉 孝 ,  ▲高▼根 淳
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-062817
公開番号（公開出願番号）：特開2003-142021
出願日： 2002年03月08日
公開日（公表日）： 2003年05月16日
要約：

【要約】【課題】本発明の目的は、顕微鏡像の像分解能を客観的判断のもとに評価できる像評価方法の提供にある。【解決手段】画像の部分領域の分解能を、前記画像全体或いは前記画像の一部領域に亘って求め、前記画像全体或いは前記一部領域に亘って平均化し、前記画像全体、或いは一部領域の分解能評価値とすることを特徴とする像評価方法を提供する。このような構成によれば、顕微鏡の像分解能の評価において、評価者の主観が入り込まないので、像分解能の評価値に対して高い精度と良い再現性を達成できる。

請求項（抜粋）：

画像の像分解能を評価する方法であって、前記画像の部分領域の分解能を、前記画像全体或いは前記画像の一部領域に亘って求め、前記画像全体或いは前記一部領域に亘って平均化し、前記画像全体、或いは一部領域の分解能評価値とすることを特徴とする像評価方法。

IPC (4件)：

H01J 37/28 ,  H01J 37/04 ,  H01J 37/22 502 ,  H01J 37/22

FI (5件)：

H01J 37/28 B ,  H01J 37/28 Z ,  H01J 37/04 A ,  H01J 37/22 502 D ,  H01J 37/22 502 H

Fターム (3件)：

5C030AA04 ,  5C033UU04 ,  5C033UU05

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 電子顕微鏡およびその分解能評価方法並びにそれを用いた半導体製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-028069   出願人：株式会社日立製作所
• パターン検査装置およびその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-238812   出願人：株式会社日立製作所
• 走査電子顕微鏡
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-124345   出願人：株式会社日立製作所
• 走査型高精細画像処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-046929   出願人：サンユー電子株式会社