特許

J-GLOBAL ID：200903035059456346

水溶性膜材料

発明者： 渡辺 聡 ,  石原 俊信 ,  竹田 好文 ,  及川 勝之
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-252849
公開番号（公開出願番号）：特開平8-095253
出願日： 1994年09月21日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：

【要約】【構成】 化学増幅型レジスト層の上層を形成する水溶性膜材料であって、N-ビニルピロリドンと他のビニル系モノマーとの水溶性共重合体とフッ素含有有機酸とを重量比として20:80〜70:30の割合で含有してなることを特徴とする水溶性膜材料を提供する。【効果】 本発明の水溶性膜材料は、化学増幅型レジスト層の上層の反射防止膜及び保護膜としても機能を有し、成膜性よく、微細で寸法精度及び合わせ精度が高く、簡便で生産性が高く、再現性よくレジストパターンの形成を可能にし得るものである。従って、本発明材料を用いることにより、半導体集積回路を製造する際のフォトリソグラフィーのパターン形成時に凹凸のある基板上にも高精度の微細加工を行なうことができる。

請求項（抜粋）：

化学増幅型レジスト層の上層を形成する水溶性膜材料であって、N-ビニルピロリドンと他のビニル系モノマーとの水溶性共重合体とフッ素含有有機酸とを重量比として20:80〜70:30の割合で含有してなることを特徴とする水溶性膜材料。

IPC (2件)：

G03F 7/11 501 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 574 ,  H01L 21/30 575

引用特許：

審査官引用 (4件)

• レジスト表面反射防止膜形成性組成物及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-126265   出願人：三菱化成株式会社
• 化学増幅型レジスト用塗布液組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-290961   出願人：東京応化工業株式会社
• 特開昭62-136634
  
• 特開昭62-258448