化学増幅型レジスト用塗布液組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阿形明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-290961
公開番号（公開出願番号）：特開平6-118630
出願日： 1992年10月06日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：

【要約】【構成】水溶性膜形成成分とプロトン発生物質とを含有して成る化学増幅型レジスト用塗布液組成物である。【効果】リソグラフィー処理における干渉を防止するとともに、プロトンを補給する効果を有し、断面形状に優れたパターンを与えることができる。

請求項（抜粋）：

水溶性膜形成成分とプロトン発生物質とを含有して成る化学増幅型レジスト用塗布液組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/032 , G03F 7/038 505 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

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