特許
J-GLOBAL ID：200903035081926828

成膜方法、成膜装置および複合成膜装置

発明者：
北原 大

北原 大 について

, 
小西 善之

小西 善之 について


出願人/特許権者：
株式会社島津製作所

株式会社島津製作所 について


代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-310167
公開番号（公開出願番号）：特開2001-131749
出願日： 1999年10月29日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：
【要約】【課題】 基板の成膜面上への異物の付着を防止して、高品質な膜を形成することができる成膜装置の提供。【解決手段】 成膜装置内において、基板アダプタ2に固定された基板Sはチャッキング機構20により基板Sの被成膜面Pが略鉛直下向きとなった状態で保持される。そして、この状態で被成膜面Pへの成膜が行われるので、成膜装置内において被成膜面Pおよび成膜面へのダスト等の付着を防止することができる。その結果、品質の高い膜を成膜することができる。
請求項（抜粋）：
基板の被成膜面を略鉛直下向きに保持した状態で、前記被成膜面へ成膜を行うことを特徴とする成膜方法。
IPC (5件)：
C23C 16/44 ,  C23C 14/24 ,  C23C 14/34 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205
FI (5件)：
C23C 16/44 G ,  C23C 14/24 J ,  C23C 14/34 J ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/205
Fターム (33件)：
4K029DA01 ,  4K029JA01 ,  4K029KA01 ,  4K030AA09 ,  4K030AA10 ,  4K030BA28 ,  4K030FA02 ,  4K030GA01 ,  4K030GA12 ,  4K030KA08 ,  4K030KA20 ,  4K030LA23 ,  5F045AA10 ,  5F045AA19 ,  5F045AB02 ,  5F045AB07 ,  5F045AC01 ,  5F045BB14 ,  5F045CB04 ,  5F045DQ17 ,  5F045EB13 ,  5F045EH20 ,  5F045EM03 ,  5F045EN04 ,  5F045HA25 ,  5F103AA08 ,  5F103AA10 ,  5F103BB33 ,  5F103BB46 ,  5F103DD16 ,  5F103DD30 ,  5F103PP01 ,  5F103RR05
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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