パターン検査方法及び検査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-013359
公開番号（公開出願番号）：特開2003-215060
出願日： 2002年01月22日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：

【要約】【課題】雑音量の低い領域では非常に高感度の検査が可能で、雑音量の高い領域では擬似欠陥の発生を抑えて検査することが可能パターン検査方法及び装置の実現。【解決手段】被検査物1上のパターンを捕らえる画像生成部10と、画像生成部の捕らえた異なる箇所の同一パターン部分のグレイレベルの差を算出して差の大きな部分を欠陥として検出する欠陥検出部20とを備えるパターン検査装置であって、被検査物上のパターンを、複数の検査領域に分割し、各検査領域毎に欠陥検出の検査感度を対応付けたレシピを記憶する位置情報レシピ記憶部27を備え、欠陥検出部は、各検査領域における欠陥検出を、前記レシピに記憶した前記検査感度で行う。

請求項（抜粋）：

被検査物上の異なる箇所の同一パターン部分のグレイレベルの差を算出して差の大きな部分を欠陥として検出するパターン検査方法であって、前記被検査物上のパターンを、複数の検査領域に分割し、各検査領域毎に欠陥検出の検査感度を対応付けたレシピを記憶し、各検査領域における欠陥検出を前記レシピに記憶した前記検査感度で行うことを特徴とするパターン検査方法。

IPC (4件)：

G01N 21/956 , G01B 11/24 , G06T 1/00 305 , H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/956 A , G06T 1/00 305 A , H01L 21/66 J , G01B 11/24 F

Fターム (41件)：

2F065AA54 , 2F065AA61 , 2F065BB02 , 2F065CC18 , 2F065CC19 , 2F065FF04 , 2F065JJ02 , 2F065JJ03 , 2F065JJ25 , 2F065JJ26 , 2F065QQ31 , 2F065RR04 , 2F065UU05 , 2G051AA51 , 2G051AB07 , 2G051AC21 , 2G051CA04 , 2G051EA08 , 2G051EA11 , 2G051EA14 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051EC02 , 2G051EC03 , 2G051EC05 , 4M106AA01 , 4M106BA04 , 4M106CA38 , 4M106DB04 , 4M106DB19 , 4M106DJ11 , 4M106DJ18 , 5B057AA03 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DC16 , 5B057DC22 , 5B057DC33 , 5B057DC36

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭63-126242
チップのパターン検査装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-294215 出願人：株式会社日立製作所
パターン欠陥検出方法とその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-012827 出願人：株式会社日立製作所

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