特許
J-GLOBAL ID:200903035209037878

バー塗布装置及び塗布方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松浦 憲三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-287650
公開番号(公開出願番号):特開2009-112923
出願日: 2007年11月05日
公開日(公表日): 2009年05月28日
要約:
【課題】薄層塗布における塗布ムラを抑制し、ウエブ幅方向に均一に塗布する。【解決手段】 連続走行するウエブ18に塗布液を塗布するバー塗布装置10において、芯金40にワイヤー42を巻回したバー20と、該バー20を回転自在に支持するバー受け部材22と、バー20に塗布液を供給するためのスロット34と、を備え、バー20のワイヤー42の径方向断面において、ワイヤー42の中心点Oで交差するX軸、Y軸方向の線径をそれぞれXi(mm)、Yi(mm)とし、線径の平均値をそれぞれXav(mm)、Yav(mm)としたとき、線径のアスペクト比Rxyi、平均値に対するX軸、Y軸方向における線径比Rxi、Ryiがそれぞれ下記式1〜式3を満たす。 Rxyi=Xi/Yi=0.98〜1.02...(式1) Rxi=Xi/Xav=0.995〜1.005...(式2) Ryi=Yi/Yav=0.995〜1.005...(式3)【選択図】 図6
請求項(抜粋):
連続走行する帯状体に塗布液を塗布するバー塗布装置において、 芯金にワイヤーを巻回したバーと、 該バーを回転自在に支持する支持部材と、 前記バーに塗布液を供給するためのスリットと、を備え、 前記バーの前記ワイヤーの径方向断面において、前記ワイヤーの中心点で交差するX軸、Y軸方向の線径をそれぞれXi(mm)、Yi(mm)とし、前記線径の平均値をそれぞれXav(mm)、Yav(mm)としたとき、前記線径のアスペクト比Rxyi、前記平均値に対するX軸、Y軸方向における線径比Rxi、Ryiがそれぞれ下記式1〜式3を満たすことを特徴とするバー塗布装置。 Rxyi=Xi/Yi=0.98〜1.02...(式1) Rxi=Xi/Xav=0.995〜1.005...(式2) Ryi=Yi/Yav=0.995〜1.005...(式3)
IPC (2件):
B05C 1/08 ,  B05D 1/28
FI (2件):
B05C1/08 ,  B05D1/28
Fターム (13件):
4D075AC22 ,  4D075AC29 ,  4D075AC72 ,  4D075AC92 ,  4D075CA48 ,  4D075DA03 ,  4D075DB31 ,  4D075DC24 ,  4F040AA22 ,  4F040AB04 ,  4F040AC01 ,  4F040BA23 ,  4F040CB07
引用特許:
出願人引用 (4件)
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