特許
J-GLOBAL ID:200903035209037878
バー塗布装置及び塗布方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松浦 憲三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-287650
公開番号(公開出願番号):特開2009-112923
出願日: 2007年11月05日
公開日(公表日): 2009年05月28日
要約:
【課題】薄層塗布における塗布ムラを抑制し、ウエブ幅方向に均一に塗布する。【解決手段】 連続走行するウエブ18に塗布液を塗布するバー塗布装置10において、芯金40にワイヤー42を巻回したバー20と、該バー20を回転自在に支持するバー受け部材22と、バー20に塗布液を供給するためのスロット34と、を備え、バー20のワイヤー42の径方向断面において、ワイヤー42の中心点Oで交差するX軸、Y軸方向の線径をそれぞれXi(mm)、Yi(mm)とし、線径の平均値をそれぞれXav(mm)、Yav(mm)としたとき、線径のアスペクト比Rxyi、平均値に対するX軸、Y軸方向における線径比Rxi、Ryiがそれぞれ下記式1〜式3を満たす。 Rxyi=Xi/Yi=0.98〜1.02...(式1) Rxi=Xi/Xav=0.995〜1.005...(式2) Ryi=Yi/Yav=0.995〜1.005...(式3)【選択図】 図6
請求項(抜粋):
連続走行する帯状体に塗布液を塗布するバー塗布装置において、
芯金にワイヤーを巻回したバーと、
該バーを回転自在に支持する支持部材と、
前記バーに塗布液を供給するためのスリットと、を備え、
前記バーの前記ワイヤーの径方向断面において、前記ワイヤーの中心点で交差するX軸、Y軸方向の線径をそれぞれXi(mm)、Yi(mm)とし、前記線径の平均値をそれぞれXav(mm)、Yav(mm)としたとき、前記線径のアスペクト比Rxyi、前記平均値に対するX軸、Y軸方向における線径比Rxi、Ryiがそれぞれ下記式1〜式3を満たすことを特徴とするバー塗布装置。
Rxyi=Xi/Yi=0.98〜1.02...(式1)
Rxi=Xi/Xav=0.995〜1.005...(式2)
Ryi=Yi/Yav=0.995〜1.005...(式3)
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (13件):
4D075AC22
, 4D075AC29
, 4D075AC72
, 4D075AC92
, 4D075CA48
, 4D075DA03
, 4D075DB31
, 4D075DC24
, 4F040AA22
, 4F040AB04
, 4F040AC01
, 4F040BA23
, 4F040CB07
引用特許: