特許

J-GLOBAL ID：200903035270973802

フォトマスクの欠陥修正方法

発明者： 高岡 修 ,  相田 和男 ,  荒巻 文朗
出願人/特許権者： エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
代理人 (1件)： 松下 義治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-099925
公開番号（公開出願番号）：特開2004-309605
出願日： 2003年04月03日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】白欠陥修正や黒欠陥修正やレベンソンマスクのガラス突起欠陥修正を1種類のガスでできるようにする。【解決手段】ダイアセトンアクリルアミドは、ガス圧やイオンビーム2のプローブ電流や走査条件を変えることにより、ガラス基板上16にもクロムパターン上15にも白欠陥を修正する遮光膜17を形成でき、またクロムやガラスを高いエッチレートで削ることもできるので、黒欠陥領域18の除去やガラス突起欠陥領域19の除去を行うことができる。白欠陥修正か黒欠陥修正かレベンソンマスクのガラス突起欠陥修正に応じて、ガス供給条件やイオンビーム照射条件を切替えてそれぞれの修正を行う。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ダイアセトンアクリルアミドをイオンビーム照射位置及びその近傍に導入できる機能を備えた、イオンビームを用いたフォトマスク欠陥修正装置で、加工時のイオンビームの照射量または照射密度、走査条件、及びガス圧の条件を切替えることにより、一種類のガスで白欠陥修正と黒欠陥修正の両方を行うことを特徴とするフォトマスクの欠陥修正方法。

IPC (2件)：

G03F1/08 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G03F1/08 T ,  G03F1/08 A ,  G03F1/08 V ,  G03F1/08 W ,  H01L21/30 502P

Fターム (4件)：

2H095BB03 ,  2H095BD32 ,  2H095BD33 ,  2H095BD35

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 新規ジアミノ化合物、ポリアミド酸樹脂、ポリアミド酸エステル樹脂、ポリイミド樹脂、それらの製造方法及び該樹脂を含有する感光性樹脂組成物並びにポリイミダゾピロロン樹脂及びポリイミダゾピロロンイミド樹脂
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-298560   出願人：日立化成工業株式会社
• アパーチャ充填用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-125683   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー