特許
J-GLOBAL ID:200903005776798581
アパーチャ充填用組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
千田 稔 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-125683
公開番号(公開出願番号):特開2002-047430
出願日: 2001年04月24日
公開日(公表日): 2002年02月12日
要約:
【要約】【課題】 アパーチャ充填用組成物を提供する。【解決手段】 約8000以下の重量平均分子量および少なくとも1.5のMw/Mn値を有する架橋可能なポリマーの1以上、1以上の酸触媒、1以上の架橋剤、並びに1以上の溶媒を含む組成物であって、該架橋可能なポリマーが重合単位として、少なくとも1つのヒドロキシル基を有するモノマーを含み、さらに該ヒドロキシル基が該架橋可能なポリマーの少なくとも約3重量%である、前記組成物が開示される。
請求項(抜粋):
約8000以下の重量平均分子量および少なくとも1.5のMw/Mn値を有する架橋可能なポリマーの1以上、1以上の酸触媒、1以上の架橋剤、並びに1以上の溶媒を含む組成物であって、該架橋可能なポリマーが重合単位として、少なくとも1つのヒドロキシル基を有するモノマーを含み、さらに該ヒドロキシル基が該架橋可能なポリマーの少なくとも約3重量%である、前記組成物。
IPC (8件):
C08L101/06
, C08K 5/103
, C08K 5/42
, C08L 61/08
, C09D 5/32
, C09D161/08
, C09D201/00
, G03F 7/11 502
FI (8件):
C08L101/06
, C08K 5/103
, C08K 5/42
, C08L 61/08
, C09D 5/32
, C09D161/08
, C09D201/00
, G03F 7/11 502
Fターム (52件):
2H025AA09
, 2H025AA13
, 2H025AA18
, 2H025AB15
, 2H025AB16
, 2H025DA34
, 2H025DA40
, 2H025EA01
, 4J002AA051
, 4J002CC011
, 4J002CC031
, 4J002CC051
, 4J002EC019
, 4J002ED019
, 4J002EF048
, 4J002EH009
, 4J002EH047
, 4J002EP018
, 4J002ET008
, 4J002EU018
, 4J002EU028
, 4J002EU048
, 4J002EU078
, 4J002EU118
, 4J002EV216
, 4J002EV256
, 4J002FD147
, 4J002FD150
, 4J002GP03
, 4J002HA03
, 4J038DB071
, 4J038FA012
, 4J038FA042
, 4J038FA082
, 4J038FA092
, 4J038FA102
, 4J038FA122
, 4J038FA142
, 4J038FA162
, 4J038GA03
, 4J038GA06
, 4J038GA08
, 4J038GA09
, 4J038GA12
, 4J038JA59
, 4J038JA61
, 4J038KA03
, 4J038KA10
, 4J038MA14
, 4J038NA19
, 4J038PB09
, 4J038PB11
引用特許:
審査官引用 (7件)
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ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-131210
出願人:富士写真フイルム株式会社, 富士フイルムオーリン株式会社
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化学増幅型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-096173
出願人:協和醗酵工業株式会社
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特開昭62-053303
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