特許
J-GLOBAL ID：200903035271135959
ホウ素含有水の処理方法及び処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-001613
公開番号（公開出願番号）：特開平11-197663
出願日： 1998年01月07日
公開日（公表日）： 1999年07月27日
要約：
【要約】【課題】ホウ素含有水を逆浸透膜処理してホウ素を除去するに際して、逆浸透膜の性能を最大限に発揮させて、効率よくかつ安全にホウ素を除去することができるホウ素含有水の処理方法及び処理装置を提供する。【解決手段】ホウ素含有水を逆浸透膜処理してホウ素を除去する際に、逆浸透膜の濃縮水のpHを測定し、逆浸透膜の濃縮水のpHが所定の値となるように逆浸透膜の供給水にアルカリを添加してpH制御を行うことを特徴とするホウ素含有水の処理方法、並びに、(A)逆浸透膜、(B)逆浸透膜の供給水にアルカリを添加する薬注ポンプ、(C)逆浸透膜の濃縮水のpHを測定するpHセンサー及び(D)pHセンサーより信号を受けて逆浸透膜の濃縮水のpHが所定の値となるように薬注ポンプに信号を送りアルカリの添加量を制御する制御器を有することを特徴とするホウ素含有水の処理装置。
請求項（抜粋）：
ホウ素含有水を逆浸透膜処理してホウ素を除去する際に、逆浸透膜の濃縮水のpHを測定し、逆浸透膜の濃縮水のpHが所定の値となるように逆浸透膜の供給水にアルカリを添加してpH制御を行うことを特徴とするホウ素含有水の処理方法。
IPC (6件)：
C02F 1/44
, B01D 61/02 500
, B01D 61/04
, B01D 61/08
, B01D 61/12
, C02F 1/58
C02F 1/44 E
, B01D 61/02 500
, B01D 61/04
, B01D 61/08
, B01D 61/12
, C02F 1/58 H
