特許
J-GLOBAL ID：200903035290907369

基板現像処理装置

発明者：
中村 次雄

中村 次雄 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-333820
公開番号（公開出願番号）：特開平9-179312
出願日： 1995年12月21日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：
【要約】【課題】 現像処理後のパターン膜にダメージを与えずにフォトレジスト層の残膜を除去することができる基板現像処理装置を提供する。【解決手段】 パターン露光されたフォトレジスト層12が被着形成された基板10の表面に現像液ノズル14から現像液を供給して現像し、その後リンスノズル40から洗浄液を基板10の表面に供給してリンスを行う。これによりパターン膜12aを硬く締めておいてから、高圧スプレーノズル18により高圧洗浄を行いフォトレジスト層の残膜12bの除去を行う。
請求項（抜粋）：
パターン露光されたフォトレジスト層が被着形成された基板を処理するための基板現像処理装置であって、前記基板の表面に現像液を供給してフォトレジスト層の現像処理を行う現像手段と、現像処理後のフォトレジスト層の表面を損傷させない第1の圧力で洗浄液を基板の表面に供給し、前記基板の表面をリンスするリンス手段と、リンス後の前記基板の表面に前記第1の圧力より高い第2の圧力で洗浄液を基板の表面に向けて噴射し、前記基板の表面に残っているフォトレジスト層の残膜を除去する高圧洗浄手段と、を含むことを特徴とする基板現像処理装置。
IPC (5件)：
G03F 7/30 501 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/32 ,  G03F 7/32 501 ,  G03F 7/42
FI (5件)：
G03F 7/30 501 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/32 ,  G03F 7/32 501 ,  G03F 7/42
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 特開平1-214863
  • 特開平4-196519
  • 基板の洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-006047   出願人：株式会社芝浦製作所
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