特許
J-GLOBAL ID：200903035483127182
Pd合金箔の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奥山 尚男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-145659
公開番号（公開出願番号）：特開平10-330992
出願日： 1997年06月04日
公開日（公表日）： 1998年12月15日
要約：
【要約】【課題】 薄くて欠陥のない安定した品質の水素透過性Pd合金箔を、低コストでかつ高い生産性を持って製造する方法を提供する。【解決手段】 めっき法によって支持体上にPd膜を連続的に形成させる工程と、該Pd膜を該支持体から剥離させた後、めっき法によって該Pd膜の両面にAg膜を形成させる工程と、Ag膜を両面に形成させた該Pd膜を、真空または不活性ガス雰囲気下で加熱処理して、Pd合金箔を生成させる工程とを含むPd合金箔の製造方法。
請求項（抜粋）：
めっき法によって支持体上にPd膜を連続的に形成させる工程と、該Pd膜を該支持体から剥離させた後、めっき法によって該Pd膜の両面にAg膜を形成させる工程と、Ag膜を両面に形成させた該Pd膜を、真空または不活性ガス雰囲気下で加熱処理して、Pd合金箔を生成させる工程とを含むPd合金箔の製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
C25D 7/06 Z
, C25D 7/06 A
, B01D 71/02
