特許

J-GLOBAL ID：200903035499987238

感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターンの製造法

発明者： 日高 敬浩 ,  鍛治 誠
出願人/特許権者： 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-262197
公開番号（公開出願番号）：特開2000-089457
出願日： 1998年09月17日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 優れた感光特性を有し、低露光量でも形状に優れる良好なパターンが得られる感光性ポリイミド前駆体組成物及びパターンの製造法を提供する。【解決手段】 (A)光重合可能な炭素-炭素二重結合を有するポリイミド前駆体並びに(B)光開始剤系として(b1)4,4′-ビス(N-エチル、N-メチル)アミノベンゾフェノン及び(b2)下記一般式(I)で表わされるヘキサアリールビイミダゾール化合物を含有してなる感光性ポリイミド前駆体組成物およびこの組成物を用いて被膜を形成する工程、被膜にマスクを介して光を照射する工程、及び、光照射後の被膜を有機溶媒または塩基性水溶液を用いて現像する工程を含むパターンの製造法。(式中、X、Y及びZは、アルキル基、ハロゲン原子、トリハロメチル基などであり、p、q及びrは、0〜5の整数である)

請求項（抜粋）：

(A)光重合可能な炭素-炭素二重結合を有するポリイミド前駆体並びに(B)光開始剤系として(b1)4,4′-ビス(N-エチル、N-メチル)アミノベンゾフェノン及び(b2)一般式(I)【化1】(式中、X、Y及びZは、各々独立に、アルキル基、ハロゲン原子、トリハロメチル基、ニトロ基、アルコキシ基又は-COR1若しくは-COOR2(R1及びR2は各々独立にアルキル基である)で示される基であり、p、q及びrは、各々独立に、0〜5の整数である)で表わされるヘキサアリールビイミダゾール化合物を含有してなる感光性ポリイミド前駆体組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/027 514 ,  C08G 73/10 ,  C08K 5/3465 ,  C08L 79/08 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

FI (8件)：

G03F 7/027 514 ,  C08G 73/10 ,  C08K 5/3465 ,  C08L 79/08 A ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/312 B ,  H01L 21/312 D ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (96件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA10 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC31 ,  2H025BC34 ,  2H025BC51 ,  2H025BC53 ,  2H025BC69 ,  2H025CA00 ,  2H025CA03 ,  2H025CA27 ,  2H025CA28 ,  2H025FA16 ,  2H025FA17 ,  4J002CM041 ,  4J002EN096 ,  4J002EU117 ,  4J002FD156 ,  4J002FD157 ,  4J002GP03 ,  4J043PA19 ,  4J043PC085 ,  4J043QB15 ,  4J043QB23 ,  4J043QB25 ,  4J043QB31 ,  4J043QB34 ,  4J043RA35 ,  4J043RA39 ,  4J043SA06 ,  4J043SA15 ,  4J043SA17 ,  4J043SA42 ,  4J043SA43 ,  4J043SA44 ,  4J043SA62 ,  4J043SA71 ,  4J043SB01 ,  4J043TA26 ,  4J043TA32 ,  4J043TA35 ,  4J043TB01 ,  4J043UA121 ,  4J043UA122 ,  4J043UA131 ,  4J043UA132 ,  4J043UA142 ,  4J043UA151 ,  4J043UA152 ,  4J043UA222 ,  4J043UA252 ,  4J043UA261 ,  4J043UA262 ,  4J043UA361 ,  4J043UA362 ,  4J043UB011 ,  4J043UB021 ,  4J043UB061 ,  4J043UB062 ,  4J043UB121 ,  4J043UB122 ,  4J043UB131 ,  4J043UB132 ,  4J043UB151 ,  4J043UB152 ,  4J043UB281 ,  4J043UB301 ,  4J043UB302 ,  4J043UB351 ,  4J043UB352 ,  4J043UB401 ,  4J043UB402 ,  4J043VA011 ,  4J043VA021 ,  4J043VA022 ,  4J043VA031 ,  4J043VA032 ,  4J043VA041 ,  4J043VA051 ,  4J043VA061 ,  4J043VA062 ,  4J043VA081 ,  4J043VA091 ,  4J043VA101 ,  4J043VA102 ,  4J043ZB22 ,  5F058AA05 ,  5F058AC02 ,  5F058AC07 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板上にパターン化されたポリイミド被膜を形成させる方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-345600   出願人：デュポン株式会社
• 感光性ポリイミド前駆体組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-132353   出願人：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
• 感光性樹脂組成物及びこれを用いたドライフィル ムレジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-287457   出願人：日本合成化学工業株式会社