特許
J-GLOBAL ID：200903035531900123

金属の高純度化方法

発明者：
新藤 裕一朗

新藤 裕一朗 について

, 
竹本 幸一

竹本 幸一 について


出願人/特許権者：
株式会社日鉱マテリアルズ

株式会社日鉱マテリアルズ について


代理人 (1件)： 小越 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-343468
公開番号（公開出願番号）：特開2002-146580
出願日： 2000年11月10日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：
【要約】【課題】 複数回の電解工程において製造する電極及び電解液を有効に利用し、かつ電解液の流れを系内で再利用するとともに、有機物に起因する酸素含有量を低減することにより、効率的に高純度金属を製造することができる金属の高純度化方法を提供する。【解決手段】 一次電解により粗金属原料を電解して一次電析金属を得る工程、前記一次電解工程により得た一次電析金属をアノードとして電気化学的溶解あるいは酸溶解し、二次電解用の純度の高い電解液を得る工程、および該二次電解用の純度の高い電解液を用いかつ前記一次電析金属をアノードとしてさらに二次電解する工程からなり、前記電解液を活性炭槽に液循環させて高純度金属水溶液中の有機物を除去し、該有機物に起因する酸素含有量を30ppm以下とすることを特徴とする金属の高純度化方法。
請求項（抜粋）：
一次電解により粗金属原料を電解して一次電析金属を得る工程、前記一次電解工程により得た一次電析金属をアノードとして電気化学的溶解あるいは酸溶解し、二次電解用の純度の高い電解液を得る工程、および該二次電解用の純度の高い電解液を用いかつ前記一次電析金属をアノードとしてさらに二次電解する工程からなり、前記電解液を活性炭槽に液循環させて高純度金属水溶液中の有機物を除去し、該有機物に起因する酸素含有量を30ppm以下とすることを特徴とする金属の高純度化方法。
IPC (5件)：
C25C 7/06 301 ,  C22B 9/04 ,  C25C 1/00 301 ,  C25C 1/00 ,  C25C 1/08
FI (5件)：
C25C 7/06 301 A ,  C22B 9/04 ,  C25C 1/00 301 A ,  C25C 1/00 301 Z ,  C25C 1/08
Fターム (10件)：
4K001AA07 ,  4K001EA02 ,  4K001EA13 ,  4K058AA12 ,  4K058BA17 ,  4K058BB03 ,  4K058DD22 ,  4K058FA02 ,  4K058FA19 ,  4K058FA23
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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