特許
J-GLOBAL ID：200903035582713824
低コヒーレンス干渉法を用いた微小高さ測定装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 毅巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-147532
公開番号（公開出願番号）：特開2005-331254
出願日： 2004年05月18日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：
【課題】 低コヒーレンス干渉法を利用して長レンジの高さを持つ測定対象の高さを精度よく測定できる測定方法及び測定装置を提供し、特に、測定時に要されるメモリの容量や計算時間を低減して計算コストを抑えることができるようにする。【解決手段】 本発明の微小高さ測定装置では、注目点と近傍点との高低差により生じる両干渉光強度の差分の絶対値が、ステージを高低差分移動したときの注目点における両干渉光強度の差分の絶対値とみなされる。このため、ステージの移動回数を減らすことができ、計算時間を短縮することができる。また、注目点とその近傍点との干渉光強度を測定するために、干渉光強度が急峻に変化する位置、つまり干渉光強度のピーク位置を検出し易くなる。この結果、ステージを移動してサンプリングする際の標本点間隔を広げて計測を行った場合にも、精度良く測定対象の高さ、ひいては表面形状を測定することができる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
予め設定された中心波長を有する低コヒーレンス光を照射可能な光源部と、前記光源部からの照射光を測定対象の物体表面及び参照物の参照面のそれぞれで反射させ、両反射光を干渉させる干渉光学系と、前記測定対象及び前記参照物の少なくとも一方を移動可能に支持するステージと、前記ステージを駆動することにより前記物体表面と前記参照面との距離を調整可能な位置調整機構と、前記両反射光の干渉縞画像を撮像して取得する撮像部と、前記撮像部で取得された干渉縞画像を用いて前記物体表面の高さを測定する演算制御部と、を備えた微小高さ測定装置において、
前記演算制御部は、
前記撮像部により撮像された干渉縞画像に、前記物体表面における注目点とその近傍点とを設定し、前記注目点と前記近傍点における干渉光強度をそれぞれ測定する干渉光強度測定手段と、
前記注目点と前記近傍点との高低差により生じる両干渉光強度の差分の絶対値を、前記ステージを前記高低差分移動したときの前記注目点における両干渉光強度の差分の絶対値とみなして、これを特徴量として算出する特徴量算出手段と、
前記位置調整機構により前記ステージを所定の標本点間隔ずつ移動させて順次算出された前記特徴量の分布をサンプリングするサンプリング手段と、
前記特徴量の分布から前記特徴量のピーク位置を検出し、前記特徴量がピーク位置となる前記ステージの位置を検出することにより、前記測定対象の高さを算出する高さ算出手段と、
を備えたことを特徴とする微小高さ測定装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (23件)：
2F065AA24
, 2F065AA54
, 2F065BB02
, 2F065BB05
, 2F065CC25
, 2F065DD06
, 2F065DD07
, 2F065FF04
, 2F065FF52
, 2F065GG24
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065LL19
, 2F065MM03
, 2F065MM07
, 2F065NN20
, 2F065PP12
, 2F065QQ03
, 2F065QQ13
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065QQ29
