特許

J-GLOBAL ID：200903035646303137

シリコン膜形成用組成物およびシリコン膜の形成方法

発明者： 松木 安生 ,  江幡 敏
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-069314
公開番号（公開出願番号）：特開2001-262058
出願日： 2000年03月13日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：

【要約】【課題】 シクロペンタシランを出発物質として溶液法により、支持体上に均一な膜厚と鏡面を持つシリコン膜を短時間で形成するための組成物および方法を提供する。【解決手段】 シクロペンタシランおよびラジカル開始剤を含有する溶液組成物を調製し、この溶液組成物を、場合により紫外線照射に付したのち、支持体上に塗布して塗膜を形成し、次いでこの塗膜を加熱してシリコン膜を生成せしめることによる、支持体上にシリコン膜を形成する。

請求項（抜粋）：

(1)下記式(A)【化1】で表される化合物およびラジカル発生剤を含有することを特徴とするシリコン膜形成用溶液組成物。

IPC (6件)：

C09D183/00 ,  C08G 77/60 ,  C08J 7/04 CEZ ,  H01L 31/04 ,  H01L 31/10 ,  C08L101:00

FI (6件)：

C09D183/00 ,  C08G 77/60 ,  C08J 7/04 CEZ Z ,  C08L101:00 ,  H01L 31/04 V ,  H01L 31/10 A

Fターム (33件)：

4F006AA39 ,  4F006AA40 ,  4F006AB39 ,  4F006AB67 ,  4F006BA06 ,  4F006CA05 ,  4F006CA08 ,  4F006EA03 ,  4F006EA05 ,  4J035KA01 ,  4J035LB01 ,  4J035LB20 ,  4J038DL011 ,  4J038KA03 ,  4J038LA02 ,  4J038NA01 ,  4J038NA23 ,  4J038PA17 ,  4J038PA19 ,  4J038PC02 ,  4J038PC03 ,  4J038PC08 ,  5F049MA01 ,  5F049MB05 ,  5F049PA05 ,  5F049PA11 ,  5F049PA18 ,  5F049PA20 ,  5F051AA05 ,  5F051CA06 ,  5F051CA20 ,  5F051CA34 ,  5F051CA40

引用特許：

出願人引用 (3件)

• シリコン膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-054004   出願人：昭和電工株式会社
• α,ω-ジヒドロポリシラン類の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-069749   出願人：財団法人相模中央化学研究所
• ポリシラン及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-357897   出願人：株式会社関西新技術研究所

審査官引用 (2件)

• シリコン膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-054004   出願人：昭和電工株式会社
• α,ω-ジヒドロポリシラン類の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-069749   出願人：財団法人相模中央化学研究所