特許
J-GLOBAL ID：200903035686054490
基板処理装置、液膜凍結方法および基板処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
振角 正一
, 梁瀬 右司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-248181
公開番号（公開出願番号）：特開2008-071875
出願日： 2006年09月13日
公開日（公表日）： 2008年03月27日
要約：
【課題】基板周辺部材の耐久性が劣化するのを抑制しながら基板表面の全面に凍結膜を生成することができる基板処理装置、液膜凍結方法および該液膜凍結方法を用いた基板処理方法を提供する。【解決手段】冷却ガス吐出ノズル3から冷却ガスを液膜11fが形成された基板表面Wfに向けて局部的に吐出する。そして、基板Wを回転させながら冷却ガス吐出ノズル3を基板Wの回転中心位置Pcから基板Wの端縁位置Peに向けて移動軌跡Tに沿って揺動させる。これにより、基板表面Wfの表面領域のうち液膜11fが凍結した領域(凍結領域)が基板表面Wfの中央部から周縁部へと広げられていく。このため、冷却ガスの供給部位が基板表面Wf上の一部領域に限定され、基板周辺部材の耐久性が劣化するのを抑制しながら、基板表面Wfの全面に凍結膜13fを生成することができる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基板表面に形成された液膜を凍結させる機能を有する基板処理装置において、
液膜が形成された基板表面を上方に向けた状態で基板を略水平姿勢で保持する基板保持手段と、
前記液膜を構成する液体の凝固点より低い温度を有する冷却ガスを前記基板保持手段に保持された前記基板の表面に向けて局部的に吐出する冷却ガス吐出手段と、
前記冷却ガス吐出手段を前記基板表面に沿って前記基板に対して相対移動させる相対移動機構と
を備え、
前記冷却ガス吐出手段から前記冷却ガスを吐出させながら前記相対移動機構により前記冷却ガス吐出手段を前記基板に対して相対移動させることで前記基板表面の全面に凍結膜を生成することを特徴とする基板処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304
, H01L 21/027
, B08B 3/10
, B08B 3/04
, G02F 1/13
H01L21/304 641
, H01L21/30 572B
, H01L21/304 643A
, B08B3/10 Z
, B08B3/04 A
, G02F1/13 101
2H088FA21
, 2H088FA30
, 2H088HA01
, 2H088MA20
, 3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201AB34
, 3B201AB48
, 3B201BB24
, 3B201BB32
, 3B201BB45
, 3B201BB82
, 3B201BB92
, 3B201CC01
, 3B201CC12
, 3B201CC13
, 5F046MA05
, 5F046MA10
