回転式基板乾燥方法および回転式基板乾燥装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-311961
公開番号（公開出願番号）：特開平9-152272
出願日： 1995年11月30日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：

【要約】【課題】回転式の基板乾燥方法において、乾燥後の基板下面に水滴付着跡が残って基板主面が汚染されることを防止する。【解決手段】主面に液体が付着した基板を低速回転させ、同時に基板下面にリンス液を吐出して基板下面を均一に濡らす。次に、基板の回転速度を上昇し、所定の高速回転へ移行してから所定時間(例えば、0.5秒以上)経過後に、基板下面の回転中心領域に気体を吐出してブロー処理を行う。高速回転への移行後、所定時間が経過すると基板下面に残存する液量は少なく、この時点で基板下面に対するブロー処理を行えば、基板下面で水はねが起きて乾燥後の基板下面に水滴付着跡が残ることを防止でき、基板の清浄乾燥が実現できる。一方で、基板の高速回転中に気体を吐出することにより、基板の短時間乾燥が図れる。

請求項（抜粋）：

主面に液体が付着した基板を回転させるとともに前記基板に気体を噴射して前記基板を乾燥させる回転式基板乾燥方法であって、前記基板の低速回転中に基板下面に液体を吐出して前記基板下面を均一に濡らし、前記液体の吐出後、前記基板の回転速度を上昇し、前記回転速度が所定の高速回転に移行してから所定時間経過後に、前記基板下面に気体を吐出することを特徴とする回転式基板乾燥方法。

IPC (3件)：

F26B 17/30 , B08B 11/04 , H01L 21/304 361

FI (3件)：

F26B 17/30 , B08B 11/04 , H01L 21/304 361 S

引用特許：

審査官引用 (7件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-032448 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
回転式基板乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-194033 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板乾燥方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-303369 出願人：松下電器産業株式会社

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