レチクルマスキングシステムを有する光学系の照明手段

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山川政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-332255
公開番号（公開出願番号）：特開平7-201730
出願日： 1994年12月13日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：

【要約】【目的】品質がよくかつコスト増を少なく抑えたレチクルマスキングシステムを提供すること。【構成】光を集中させるガラス棒(5)を有し、レチクルマスキングシステム(REMA)(51)はそのガラス棒(5)の射出端に配置されている。

請求項（抜粋）：

レチクルマスキングシステム(51)を有する光学系、特にマイクロリソグラフィ用投影露光装置の照明手段において、光を集中させるためのガラス棒(5)が設けられており且つガラス棒(5)の射出端にレチクルマスキングシステム(51)が配置されていることを特徴とする照明手段。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G02B 19/00 , G02B 27/00 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D , G02B 27/00 V , H01L 21/30 527

引用特許：

審査官引用 (6件)

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