特許
J-GLOBAL ID：200903035882664515

保護-4-アミノメチル-ピロリジン-3-オンの製造方法

発明者：
ムン・クァンユル

ムン・クァンユル について

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キム・ウォンソプ

キム・ウォンソプ について

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リー・テーヒー

リー・テーヒー について

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チャン・ゼーヒョク

チャン・ゼーヒョク について


出願人/特許権者：
エルジ ケミカル リミテッド

エルジ ケミカル リミテッド について


代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-534535
公開番号（公開出願番号）：特表2002-505322
出願日： 1999年03月04日
公開日（公表日）： 2002年02月19日
要約：
【要約】a)式(5)の化合物を溶媒中で水素圧力下にラネー・ニッケル触媒と反応させ、式(6)の化合物を製造し、b)式(6)の化合物のアミノ基を保護し、式(7)の化合物を製造した後、c)二重結合を選択的に還元することを含む、式(1)(式中、P1およびP2は保護基である)の化合物を製造する方法。【化1】
請求項（抜粋）：
式(1):【化1】[式中、P1およびP2は保護基である]の化合物の製造方法であって、 a)式(5):【化2】の化合物を溶媒中で水素圧力下にラネー・ニッケル触媒と反応させて、式(6):【化3】の化合物を製造し、 b)式(6)の化合物のアミノ基を保護し、式(7):【化4】の化合物を製造し、 c)二重結合を選択的に還元することを特徴とする方法。
IPC (5件)：
C07D207/24 ,  C07D207/36 ,  C07D471/04 114 ,  A61K 31/4375 ,  A61P 31/04
FI (5件)：
C07D207/24 ,  C07D207/36 ,  C07D471/04 114 N ,  A61K 31/4375 ,  A61P 31/04
Fターム (25件)：
4C065AA04 ,  4C065BB09 ,  4C065CC03 ,  4C065CC09 ,  4C065DD02 ,  4C065EE02 ,  4C065HH08 ,  4C065HH09 ,  4C065JJ04 ,  4C065KK01 ,  4C065LL02 ,  4C065LL08 ,  4C065PP02 ,  4C065PP10 ,  4C065QQ04 ,  4C069AB09 ,  4C069BB02 ,  4C069BB38 ,  4C069BC12 ,  4C069BD09 ,  4C069CC19 ,  4C086AA04 ,  4C086CB09 ,  4C086GA07 ,  4C086ZB35
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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