特許
J-GLOBAL ID：200903035952434458

プロセスシステムヘルスインデックスおよびこれを使用する方法。

発明者：
ユ、ホンギュ

ユ、ホンギュ について

, 
ラム、ヒュー・エー.

ラム、ヒュー・エー. について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (11件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  橋本 良郎 ,  風間 鉄也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-532295
公開番号（公開出願番号）：特表2007-502026
出願日： 2004年03月17日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：
【課題】 プロセスシステムヘルスインデックスとこれを使用する方法。【解決手段】 半導体製造過程の間、基板を処理する処理システムをモニタする方法は、記載された。この方法は、複数の観測に対して処理システムからデータを取得することを具備する。それは、前記データから主成分分析(PCA)モデルを構成することを更に備えおり、そこにおいて、重み因子は、取得されたデータの前記データ変数の少なくとも1つに適用される。PCAモードは、追加データの取得に関し利用され、少なくとも1つの統計量は、各々の追加の観測に対して決定される。処理システムに対してコントロールリミットを設定すると、少なくとも1つの統計量は、各々の追加の観測に対してコントロールリミットと比較され、コントロールリミットを上回るときに、処理システムのための不良は検出される。【選択図】
請求項（抜粋）：
半導体製造過程の間、基板を処理する処理システムをモニタする方法であって、 複数の観測に対して、前記処理システムから複数のデータ変数を有するデータを取得することと、 主成分分析を使用して、前記複数の観測に対して、前記データの1つ以上の主成分を決定することと、 前記主成分分析の間、前記複数のデータ変数の少なくとも1つに重み付けをすることと、 前記処理システムから追加データを取得することと、 前記1つ以上の主成分上への前記追加データの射影から算出された1つ以上のスコアから少なくとも1つの統計量を決定することと、 前記少なくとも1つの統計量に対して、コントロールリミットを決定することと、 前記少なくとも1つの統計量を前記コントロールリミットと比較することとを具備する方法。
IPC (2件)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/02
FI (2件)：
H01L21/302 103 ,  H01L21/02 Z
Fターム (6件)：
5F004AA16 ,  5F004BB13 ,  5F004CB02 ,  5F004CB06 ,  5F004CB12 ,  5F004CB16
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 半導体処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-258116   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立インダストリイズ
  • 製造プロセスを制御する方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-303317   出願人：イーストマン・コダツク・カンパニー
  • 特開昭61-253573
審査官引用 (3件)
  • 半導体処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-258116   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立インダストリイズ
  • 製造プロセスを制御する方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-303317   出願人：イーストマン・コダツク・カンパニー
  • 特開昭61-253573

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