特許
J-GLOBAL ID:200903035989036835

磁気抵抗効果多層膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-092566
公開番号(公開出願番号):特開平10-284769
出願日: 1997年04月10日
公開日(公表日): 1998年10月23日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、フリー強磁性層に縦バイアスを印加するための層をフリー強磁性層に積層する形に設け、フリー強磁性層に縦バイアスを印加するための層とフリー強磁性層との境界部分への不要元素混入のおそれをなくして縦バイアスによる効果を充分に得ることができるとともに、線形応答性に優れ、バルクハウゼンノイズを抑制した磁気抵抗効果型センサを提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、磁化反転がピン止めされたピン止め強磁性層32と磁化反転が自由にされたフリー強磁性層34を非磁性層33を介し積層してなる磁気抵抗効果多層膜であり、前記フリー強磁性層34の上面または下面に軟磁性層37が積層され、前記軟磁性層37の上面または下面に反強磁性層38が少なくとも一層積層されてなることを特徴とする。
請求項(抜粋):
磁化反転がピン止めされたピン止め強磁性層と磁化反転が自由にされたフリー強磁性層を非磁性層を介し積層してなる磁気抵抗効果多層膜であり、前記フリー強磁性層の上面または下面に軟磁性層が積層され、前記軟磁性層の上面または下面に反強磁性層が少なくとも一層積層されてなることを特徴とする磁気抵抗効果多層膜。
IPC (3件):
H01L 43/08 ,  G11B 5/39 ,  H01F 10/08
FI (3件):
H01L 43/08 Z ,  G11B 5/39 ,  H01F 10/08
引用特許:
審査官引用 (5件)
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