特許
J-GLOBAL ID：200903036002808480
半導体製造プロセス用石英ガラス製品及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高 雄次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-078223
公開番号（公開出願番号）：特開平8-245230
出願日： 1995年03月09日
公開日（公表日）： 1996年09月24日
要約：
【要約】【目的】 半導体製造プロセスにおいて半導体を汚染せず、石英ガラスに堅固に固着され、かつ光学的な読み取りを可能とする記号を付した半導体製造プロセス用石英ガラス製品を提供する。【構成】 耐熱性、耐酸性に優れ、かつアルカリ金属元素や遷移元素の含有率が極めて少ないほぼ黒色の着色剤を、記号の形状に倣って石英ガラス製品の表面又は表面に形成した溝若しくは凹部内にこれらの溶融により付着させることにより、着色剤を、使用環境の汚染源とさせることがないと共に、長期間に亘って熱や酸等による褪色や変質、又は消失を生じさせないものとする。
請求項（抜粋）：
耐熱性、耐酸性に優れ、かつアルカリ金属元素や遷移元素の含有率が極めて少ないほぼ黒色の着色剤を、記号の形状に倣って石英ガラス製品の表面又は表面に形成した溝若しくは凹部内にこれらの溶融により付着させたことを特徴とする半導体製造プロセス用石英ガラス製品。
IPC (5件)：
C03B 20/00
, C30B 15/10
, H01L 21/205
, H01L 21/22 501
, H01L 21/208
C03B 20/00
, C30B 15/10
, H01L 21/205
, H01L 21/22 501 M
, H01L 21/208 Z
