精度改良型パターン・ジェネレータ

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-534915
公開番号（公開出願番号）：特表2002-506230
出願日： 1999年03月02日
公開日（公表日）： 2002年02月26日
要約：

【要約】本発明は、より良好なパターン忠実度および寸法精度を有する加工品へのパターン作成方法に関する。この方法は、電磁波を放射するソースを提供する段階と、前記放射により、複数の画素を有する空間光変調装置(SLM)を照射する段階と、加工品に変調装置の画像を投射する段階と、前記加工品および/または投射系を互いに移動させる段階と、書き込まれるパターンのデジタル表現を情報記憶装置から読み取る段階と、パターン表現から、連続した部分的パターンを抽出する段階と、前記部分的パターンを変調装置への信号に変換し、前記信号を変調装置に供給する段階と、さらに、加工品と、変調装置と、放射源を調整し、前記パターンを、前記部分的画像からつなぎ合わせて作成する段階と、さらに、少なくとも2つの別々の露光において前記パターンを露光する段階とから成り、片方の露光において、もう一方の露光中に生じる誤差に補正が加えられることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

超紫外線(EUV)から赤外線(IR)までの波長範囲にある電磁波を放射するソースを提供する段階と、前記放射により、複数の変調素子(画素)を有する空間光変調装置(SLM)を照射する段階と、前記加工品に前記変調装置の画像を投射する段階と、前記加工品および/または投射系を互いに移動させる段階と、書き込まれたパターンのデジタル表現を情報記憶装置から読み取る段階と、前記パターン表現から、連続した部分的パターンを抽出する段階と、前記部分的パターンを変調装置への信号に変換し、前記信号を該変調装置に供給する段階と、さらに、前記加工品の動作と、前記変調装置への信号の供給と、前記放射光の輝度を調整し、前記パターンを、前記連続した部分的パターンによって作成された複数の部分的画像からつなぎ合わせて作成する段階と、さらに、少なくとも2つの別々の露光により前記パターンを露光する段階とから成り、片方の露光において、もう一方の露光中に生じる誤差に補正が加えられることを特徴とする、より良好な忠実度と寸法精度を有する加工品へのパターン作成方法。

IPC (5件)：

G02B 26/08 , G03F 7/20 , G03F 7/207 , G03F 1/00 , H01L 21/027

FI (5件)：

G02B 26/08 E , G03F 7/20 , G03F 7/207 , G03F 1/00 , H01L 21/30 519

Fターム (18件)：

2H041AA13 , 2H041AA16 , 2H041AB14 , 2H041AC06 , 2H041AZ05 , 2H095BA05 , 2H095BB02 , 2H097AA03 , 2H097BA01 , 2H097BB01 , 2H097CA12 , 2H097CA14 , 2H097JA02 , 2H097LA10 , 5F046AA06 , 5F046BA07 , 5F046CB02 , 5F046DA02

引用特許：

審査官引用 (7件)

基板の露光の方法と装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-045408 出願人：マイクロニック・レーザー・システムズ・エイビー
特開平2-192710
平面基板上にデータパターンを記録するためのシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-346686 出願人：クレオプロダクツインコーポレイテッド

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