特許

J-GLOBAL ID：200903036020681403

リソグラフィ装置のレベルセンサ

発明者： パウルス、アントニウス、マンドレアス、テウニセン ,  パトルス、ヨハンネス、マリア、ブロードバッケル ,  レネ、マリヌス、ゲラルデュス、ヨハン、クエーンス
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-005737
公開番号（公開出願番号）：特開2004-343045
出願日： 2004年01月13日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：

【課題】プロセス依存の見掛け上の表面くぼみを最小にするリソグラフィ投影装置のレベルセンサを提供する。【解決手段】リソグラフィ投影装置のレベルセンサにおいて、該レベルセンサは、光源、第一リフレクタ、第二リフレクタ、およびデテクタとにより構成され、該第一リフレクタは光源からの光をウェハ表面に導くように配置されており、該第二リフレクタはウェハ表面より反射された光をデテクタに導くように配置されており、ここで第一リフレクタおよび第二リフレクタはプロセス依存の見掛け上の表面くぼみを最小にするように選択されている。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置のレベルセンサにおいて、該レベルセンサは、光源、第一リフレクタ、第二リフレクタ、およびデテクタとにより構成され、該第一リフレクタは光源からの光をウェハ表面に導くように配置されており、該第二リフレクタはウェハ表面より反射された光をデテクタに導くように配置されており、ここで第一リフレクタおよび第二リフレクタはプロセス依存の見掛け上の表面くぼみを最小にするように選択されていることを特徴とするリソグラフィ投影装置のレベルセンサ。

IPC (4件)：

H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G01C9/06 ,  G03F7/207

FI (4件)：

H01L21/30 526B ,  G01B11/00 A ,  G01C9/06 A ,  G03F7/207 H

Fターム (20件)：

2F065AA01 ,  2F065AA02 ,  2F065AA37 ,  2F065CC17 ,  2F065CC19 ,  2F065GG00 ,  2F065HH04 ,  2F065HH08 ,  2F065JJ00 ,  2F065LL11 ,  2F065LL46 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ29 ,  5F046BA03 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DC10 ,  5F046GA03 ,  5F046GA14

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-328907   出願人：株式会社ニコン
• 特開平1-303721
  
• 面位置検出装置、並びに該検出装置を用いた露光装置および露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-111314   出願人：株式会社ニコン