特許
J-GLOBAL ID：200903036157502042

有機膜形成装置

発明者：
佐々木 浩司

佐々木 浩司 について

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成井 啓修

成井 啓修 について

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簗嶋 克典

簗嶋 克典 について

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田中 貞雄

田中 貞雄 について

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目々澤 聡彦

目々澤 聡彦 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (2件)： 山口 邦夫 ,  佐々木 榮二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-213004
公開番号（公開出願番号）：特開2004-055401
出願日： 2002年07月22日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】良質な有機膜を形成するための諸条件を考慮して、チャンバー内における基板の配置を決定する。【解決手段】有機原料11を気化昇華室4で気化または昇華して原料ガスが生成される。この原料ガスにキャリアガスが混合され、原料ガス輸送管5でチャンバー2に輸送される。基板3はチャンバー2内で垂直な状態で保持され、原料ガス輸送管5のインジェクター17は基板3に対向し、この基板3に対して直交する方向から原料ガスを吹き付ける。基板3を垂直な状態で保持することで、パーティクルは基板に付着することなく落下し、また、基板3および画素の塗り分けを行うマスクのたわみを抑えることができる。よって、不良の発生を抑え、膜分布の均一化が図られた良質な有機膜を形成できる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に有機物の薄膜を形成する有機膜形成装置において、 前記基板を収納するチャンバーと、 前記チャンバーに設けられ、有機膜形成面に画素塗り分けマスクが取り付けられた前記基板を保持する保持手段と、 有機原料を気相に変化させて原料ガスを生成する気化昇華手段と、 前記原料ガスとキャリアガスを混合するキャリアガス導入手段と、 前記キャリアガスを用いて前記原料ガスを輸送する原料ガス輸送手段と、 前記原料ガス輸送手段で輸送された前記原料ガスを前記チャンバー内に放出する放出手段と、 前記チャンバーの排気を行う排気手段とを備え、 前記チャンバー内における前記基板の配置を、前記有機膜形成面が鉛直上向きとなる姿勢、前記有機膜形成面が垂直となる姿勢、あるいは前記有機膜形成面が傾斜した姿勢のいずれかから選択した ことを特徴とする有機膜形成装置。
IPC (3件)：
H05B33/10 ,  C23C14/12 ,  H05B33/14
FI (3件)：
H05B33/10 ,  C23C14/12 ,  H05B33/14 A
Fターム (12件)：
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029DA00 ,  4K029DA04 ,  4K029DA06 ,  4K029DB14 ,  4K029HA01 ,  4K029JA02
引用特許：
審査官引用 (10件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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