特許
J-GLOBAL ID：200903019250491075
凝縮被膜生成法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 高城郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-559904
公開番号（公開出願番号）：特表2003-522839
出願日： 2001年02月15日
公開日（公表日）： 2003年07月29日
要約：
【要約】【課題】 装置の効率を高め、基板に凝縮する皮膜の品質を向上させる。【解決手段】 例えばOLDEのように皮膜される基板を製作する方法および装置について開示され、少なくとも1つの皮膜が凝縮法により少なくとも一つの基板に生成され、少なくとも反応ガスの一部に固体および/または液体の前駆体および特に少なくとも1つの昇華材料源が使用される。本発明は、前駆体材料源と基板の間の反応ガスの温度制御によって、基板の手前における反応ガスの凝縮が防止されることを特徴としている。
請求項（抜粋）：
反応ガスの少なくとも一部に固体および/または流体の初期物質および特に少なくとも一つの昇華材料源が使用され、少なくとも一つの皮膜を凝縮法によって少なくとも一つの基板に形成させる基板に皮膜を生成するための方法において、 材料源(1、3)および基板(12)の間の反応ガスの濃度制御および/または温度制御によって、反応ガスの基板の手前における凝縮が防止されることを特徴とする方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/448
, C23C 14/24 D
4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029BA62
, 4K029CA01
, 4K029DB15
, 4K030AA17
, 4K030AA18
, 4K030EA05
, 4K030EA06
, 4K030GA02
, 4K030JA03
, 4K030JA04
, 4K030JA09
, 4K030JA10
, 4K030JA12
, 4K030KA24
, 4K030KA41
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示
前のページに戻る
