特許
J-GLOBAL ID:200903036199483277
超純水の製造方法及び超純水製造装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
須山 佐一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-351829
公開番号(公開出願番号):特開2004-181364
出願日: 2002年12月03日
公開日(公表日): 2004年07月02日
要約:
【課題】回収水中に含まれる過酸化水素を完全に除去するとともに、活性炭処理装置の逆洗頻度や交換頻度を少なくして、排水を減少させ、ランニングコストも低減させた超純水の製造方法及び超純水製造装置を提供すること。【解決手段】二次純水システムにおけるユースポイントで使用された超純水を、活性炭処理装置を備えた回収システムを介して前処理システム又は一次純水システムに還流するにあたり、活性炭による超純水の処理を、酸化剤に対する分解能が相対的に低い方活性炭による第1の処理と、酸化剤に対する分解能が相対的に高い活性炭による第2の処理により行う。紫外線酸化装置で発生する微量の過酸化水素を完全に除去するとともに、活性炭処理装置の逆洗頻度や交換頻度を少なくして、排水を減少させ、ランニングコストも低減させることができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
二次純水システムにおけるユースポイントで使用された超純水を、回収システムを介して前処理システム又は一次純水システムに還流するにあたり、前記超純水を前記回収システムにおいて活性炭で処理する超純水の製造方法において、
前記活性炭による超純水の処理を、酸化剤に対する分解能が相対的に低い方活性炭による第1の処理と、酸化剤に対する分解能が相対的に高い活性炭による第2の処理により行うことを特徴とする超純水の製造方法。
IPC (4件):
C02F1/58
, C02F1/42
, C02F1/469
, C02F9/00
FI (15件):
C02F1/58 H
, C02F1/42 B
, C02F9/00 502D
, C02F9/00 502F
, C02F9/00 502G
, C02F9/00 502H
, C02F9/00 502J
, C02F9/00 502N
, C02F9/00 502P
, C02F9/00 502Z
, C02F9/00 503B
, C02F9/00 504B
, C02F9/00 504C
, C02F9/00 504E
, C02F1/46 103
Fターム (16件):
4D025AA04
, 4D025BA09
, 4D025BA15
, 4D025BB02
, 4D025BB04
, 4D025DA06
, 4D025DA10
, 4D038AA01
, 4D038AB26
, 4D038BA04
, 4D038BB08
, 4D038BB10
, 4D061DA01
, 4D061DB13
, 4D061FA08
, 4D061FA20
引用特許:
審査官引用 (3件)
-
超純水製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-011147
出願人:オルガノ株式会社
-
CMP排水の処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-304372
出願人:栗田工業株式会社
-
過酸化水素の分解方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-175463
出願人:栗田工業株式会社
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